Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006 :
LIRMM (Montpellier II) : Départements Microélectronique et Robotique
IES
Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :
|
Conception et Test
heures-personnes
|
Nombre utilisateurs
|
Formation Initiale (TP + stages + projets)
|
44 881
|
558
|
Recherche (doctorants)
|
27 000
|
39
|
Formation Continue
|
2 000
|
101
|
Principaux moyens opérationnels :
Les locaux du PCM, inaugurés en 2002, abritent :
2 salles de formation équipées en station de travail et PC (40 postes), 2 salles d’expérimentation (plates-formes FPGA-SOC), 1salle de réunion, 1 salle abritant le testeur et le secrétariat du pôle.
| | -
Outils CAO du CNFM : tous les outils (le pôle de Montpellier abrite le CRCC).
| | -
Le pôle de Montpellier abrite le testeur HP 83000 du CRTC depuis 1998.
|
|
Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle :
0,53 M€ (hors services nationaux)
Personnel affecté au pôle en 2005/2006 :
-
1 professeur (directeur de pôle), 1 professeur directeur adjoint (co-directeur),
-
2 ingénieurs à temps partiel (réseaux et infrastructure),
-
1 secrétaire (25%).
pôle cnfm de L’OUEST
Centre Commun de Microélectronique de l’Ouest
Directeur : Olivier BONNAUD - Directeur adjoint : Raphaël GILLARD
CCMO / Université Rennes I / Bât 11B / Campus de Beaulieu / 35042 RENNES Cedex
-
|
02.23.23.60.71
02.23.23.86.61
|
|
02.23.23.56.57
02.23.23.34.39
|
|
Olivier.Bonnaud@univ-rennes1.fr
raphael.gillard@insa-rennes.fr
|
Etablissement de rattachement : Université Rennes 1
Etablissements fondateurs : Université Rennes 1, SUPELEC, INSA de Rennes
Filières de formation initiale utilisatrices du pôle en 2005/2006 :
Rennes
|
Univ.Rennes 1
|
Master pro
|
M2P mention Electronique - spécialité CMM (Composants Microélectroniques et Microsystèmes)
|
Master pro
|
M2P mention Mécanique - spécialité Mécatronique
|
Master rech.
|
M2R mention Electronique - MARS (Microélec., Archi. Réseaux et Syst.) parcours Archi et microtechno. + Systèmes et réseaux
|
Master
|
M1 Electronique : UE Technologie et capteur + Conception + Technologie des composants + Projet labo
|
Licence Pro
|
3A Mécatronique
|
INSA Rennes
|
Ingénieur
|
3A ESC (Electronique & Syst. de Com)
|
Ingénieur
|
2A MNT (Matériaux NanoTechnologie)
|
Angers
|
ESEO
|
Ingénieur
|
3A MMC (Microélec., Microonde, appliquées aux Com.)
|
Ingénieur
|
2A Tronc commun + Microélectronique
|
Bordeaux
|
Univ. Bordeaux 1
|
Licence pro
|
Production et transformation électronique et information des systèmes industriels
|
Caen
|
ENSICAEN
|
Ingénieur
|
3A + 2A Microélectronique
|
Nantes
|
Polytech
|
Ingénieur
|
3A SEII (Système électronique et Informatique Industrielle)
|
Univ. Nantes
|
Master pro
|
M2P CMOQCEO (Concep., Mise en Œuvre et Qualité des Composants Electroniques et Optoélectronique)
|
Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006 :
IETR (Institut d’Electronique et de Télécom. de Rennes), GREYC (Groupe de recherche en informatique, image, automatique et instrumentation de Caen), IMN (Institut des Matériaux de Nantes), CEGELY (Centre de Génie Electrique de Lyon), activités en collaboration avec U. INSERM 522 et Institut de Chimie de Rennes
Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :
|
Technologie et Caractérisation
heures-personnes
|
Conception et Test
heures-personnes
|
Nombre utilisateurs
|
Formation Initiale (TP + stages + projets)
|
5 178
|
13 419
|
476
|
Recherche et doctorants
|
6 300
|
4 200
|
19
|
Formation continue
|
822
|
0
|
25
|
Principaux moyens opérationnels :
| -
Fours à diffusion-oxydation-recuit équipements de photolithogravure, gravure plasma, bâtis d’évaporation, bâtis de dépôts,
| | -
Mesures électriques I(V), C(V), test sous pointes, analyseurs de réseaux, analyseurs de spectres,
| | -
8 stations de travail, 20 PC,
-
Outils CAO du CNFM : Cadence, Altera, Xilinx,
-
Outils CAO spécifiques : ADS, COSSAP, SupremIV,
| | -
Accès au testeur HP 83000 du CNFM,
-
Analyseurs logiques.
|
Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle : 2,5 M€
Personnel affecté au pôle en 2005/2006 :
-
2 professeurs (directeur de pôle et directeur adjoint)
-
1 secrétaire, 1 technicien à 80 % et 1 technicien à 30 %.
pôle cnfm de La région Paca
Directeur : Rachid BOUCHAKOUR Directeur adjoint : Gilles JACQUEMOD
IMT Technopôle de Château Gombert / 13451 MARSEILLE Cedex 20
|
04.91.05.45.28
|
|
04.91.05.45.29
|
|
Rachid.Bouchakour@Polytech.univ-mrs.fr
|
Site web : www.cnfmpaca.fr
Etablissement de rattachement :
|
Université de Provence – Aix Marseille I
|
Etablissements fondateurs :
|
U. d’Aix-Marseille I ; U. d’Aix-Marseille II, U. d’Aix-Marseille III, Ecole Généraliste d’Ingé. de Marseille (EGIM), Institut Supérieur de Microélectronique et Applications (Groupe ESIM), U. de Toulon et du Var, Institut Supérieur d’Electronique et du Numérique Toulon, U. de Nice Sophia Antipolis
|
Etablissements associés :
|
EURECOM ; Centre de Microélectronique de Provence (EnSMSE) ; ESIEE/CERAM antenne de Sophia
|
Filières de formation initiale utilisatrices du pôle en 2005/2006 :
Marseille
|
Polytech
|
Ingénieur
|
3A MT (Microélectronique et Télécoms) - option Microélectronique + Télécoms
|
Ingénieur
|
2A MT - Tronc commun
|
Master rech.
|
M2R MINELEC (Microélectronique et Nanoélectronique) – spécialité microélectronique
|
IUT
|
Licence pro
|
EISI (Electronique et Informatique des Systèmes Industriels) - mention MMS (Microélectronique et MicroSystèmes)
|
Licence pro
|
Télécommunications
|
Gardanne
|
ENSMSE
|
Ingénieur
|
3A ISMEA (Ingénieurs Spécialisés en MicroElectronique. et Applications) - CME (Conception MicroElectronique) + ISE (Ingénierie des Systèmes Embarqués)
|
Ingénieur
|
2A ISMEA
|
Ingénieur
|
2A Ingénieur Civil des Mines (ICM)
|
Ingénieur
|
3A ISFEN Formation continue
|
Master spéc.
|
TMPM (Technologie et Management de la Production Microélec.)
|
Nice
|
Polytech
|
Ingénieur
|
3A TNS (Traitement Numérique du Signal)
|
Ingénieur
|
3A TR (Télécoms et Réseau)
|
Ingénieur
|
3A – option MI (Microélectronique et Instrumentation) + Génie des Systèmes Embarqués
|
Ingénieur
|
2A Tronc Commun + MI + Génie des Systèmes Embarqués
|
Ingénieur
|
2A Informatique
|
UNSA
|
Master pro
|
M2P - option Télécoms, informatique et microélectronique
|
Master rech.
|
M2R Télécoms RF et microélectronique
|
Master
|
M1 EEA (Electronique Electrotechnique et Automatique)
|
Licence
|
EEA
|
Toulon
|
ISEN
|
Ingénieur
|
2A + 3A - option Télécommunications
|
Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006:
L2MP (Marseille et Toulon), LEAT, I2S, EUROCOM-ENST (Nice Sophia Antipolis), CMP-GC (Gardanne)
Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :
|
Conception et Test
heures-personnes
|
Nombre utilisateurs
|
Formation Initiale (TP + stages + projets)
|
34 534
|
632
|
Doctorants et Chercheurs
|
45 000
|
90
|
Formation continue et Transfert
|
54
|
4
|
Principaux moyens opérationnels :
6 salles de Conception réparties sur 4 sites
| -
Outils du CNFM : Cadence, Silvaco, Altera, Anadigm, Xilinx, Synopsis, ADS, ISE
| | -
Accès au testeur HP 83000 du CNFM.
|
Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle :
480k€
Personnel affecté au pôle en 2005/2006 :
-
1 professeur (directeur de pôle), 1 professeur (directeur adjoint de pôle), 1 Maître de Conférence,
2 Enseignants chercheurs
-
1 secrétaire à environ 30 %, 1 ingénieur d’étude informaticien à 50 %.
pôle cnfm de PARIS îLE-DE-FRANCE
CEntre de MIcroélectronique de Paris Ile de France
Directeur : Jean-Jacques GANEM
CEMIP / Universités Paris 6 et 7 / Case Courrier 7102 / Tour 23-13 / 4ème étage / Porte 22
2 Place Jussieu / 75251 PARIS Cedex 05
-
|
01.44.27.46.34
|
|
01.44.27.46.34
|
|
ganem@gps.jussieu.fr
|
Etablissement de rattachement : Université Pierre et Marie Curie (Paris 6)
Etablissements fondateurs : Universités Paris 6 et Paris 7, ESPCI, ESIEE, ENST, ISEP, ENSEA
Filières de formation initiale utilisatrices du pôle en 2005/2006 :
Paris Ile de
France
|
ENSEA
|
Ingénieur
|
3A - option ECM (Electro. Comm. Microondes) + Tronc commun
|
Ingénieur
|
3A - option Informatique et Systèmes (IS) + Tronc commun
|
Ingénieur
|
2A Circuits intégrés numériques + Microélectronique analogique + Microsystème + Electronique large bande
|
|
Ingénieur
|
1A Circuits intégrés analogiques
|
ENST
|
Ingénieur
|
1A + 2A Electronique intégrée
|
Ingénieur
|
2A + 3A Cycle optionnel unifié
|
Master
|
Dispositifs et techniques de communication
|
Master
|
MSC Master of Science in Electrical Engineering
|
ESIEE
|
Ingénieur
|
5A + 4A systèmes électroniques et microélectroniques
|
Ingénieur
|
3A tronc commun
|
Master
|
Micro Electro Mechanical Systems (MEMS)
|
ESPCI
|
Ingénieur
|
3A + 1A
|
ESTE
|
Technologue
|
2A Cycle optionnel unifié +
3A Electronique et microélectronique
|
ISEP
|
Ingénieur
|
3A ISyM (Intégration des Systèmes Monopuce)
|
Ingénieur
|
2A
|
Ingénieur
|
1A Mesures électroniques et Simulation
|
Paris 6
|
Ingénieur
|
3A + 2A + 1A IFITEP (Institut de Formation D'ingénieur en Technologies Electroniques)
|
Ingénieur
|
3A IST (Institut Science et Technologie) - spécialité Informatique et électronique
|
Master
|
M2 ESCO (Elec. et Sys. de com.)- option Electronique des Systèmes Embarqués) + STN (Systèmes de Télécommunications Numériques)
|
Master
|
M2 Informatique - ACSI (Arch. des circuits et Systèmes Intégrés) + option SE (Systèmes Electroniques)
|
Master
|
M1 Informatique – ACSI + réseaux + systèmes et applications réparties
|
Master
|
M1 SDI (Science De l’Ingénieur) Tronc commun
|
Licence
|
Science et Technique de l’Ingénieur STIC - option CAO électronique
|
Univ Cergy
|
Maîtrise
|
Sciences Physiques
|
Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006 :
-
LIP6 (Laboratoire d’Informatique de Paris 6)
-
LISIF (Laboratoire d’Instrumentation et Systèmes de l’Ile de France)
-
INSP (Institut des Nanosciences de Paris)
-
Laboratoires de :
ENST (Ecole Nationale Supérieure des Télécommunications)
ESIEE (Ecole Supérieure d’Ingénieur en Electronique et Electrotechnique)
ISEP (Institut Supérieur d’Electronique de Paris)
Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :
|
Technologie et Caractérisation
heures-personnes
|
Conception et Test
heures-personnes
|
Nombre utilisateurs
|
Formation Initiale (TP + stages + projets)
|
16 490
|
136 374
|
2 010
|
Recherche (doctorants)
|
1 790
|
52 300
|
71
|
Formation Continue
|
2 584
|
279
|
101
|
Principaux moyens opérationnels :
| -
Salle blanche de 300m² permettant la réalisation complète de circuits intégrés silicium ; 2 ensembles de fours, poste alignement double face, soudure, gravure profonde, … pulvérisation, …
-
Gravure alumine, aligneur de masque, report de composants, micro-connectique,…
| | -
Microscopie optique et microscopie électronique à balayage, mesures de profondeur, ellipsométrie, spectrométrie IR, profilométrie optique, vitrométrie laser,
-
Test sous pointes, analyseurs de réseaux, de spectres,
-
Caractérisation électrique C(V), I(V) (sous pointes, sous champ magnétique,…).
| | -
131 stations de travail, 48 PC, 12 terminaux X,
-
Outils CAO du CNFM : Cadence, Eldo, Silvaco, Altera, Xilinx,
-
Outils CAO spécifiques : Alliance, Synopsys, Mentor Modelsim, HSPICE,
HP-ADS, HFSS, SONET, SimulNN, NeuroOne, Microcosm, ANSYS, PowerMill, VHDL.
| | -
Accès au testeur HP 83000 du CNFM,
-
Testeur Tektronix LV500.
|
Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle :
3,5 M€
Personnel affecté au pôle en 2005/2006 :
-
1 maître de conférences (directeur de pôle),
-
1 secrétaire,
-
2 ingénieurs et 1 assistant ingénieur à 30 %.
pôle cnfm de paris-sud orsay
Pôle MIcroélectronique de Paris-Sud
Directrice : Sylvie RETAILLEAU – Directrice adjointe : ELisabeth Dufour-Gergam
PMIPS – IEF / Bâtiment 220 / Université Paris-Sud / 91405 ORSAY Cedex
|
01.69.15.78.05
|
|
01.69.15.40.20
|
|
sylvie.retailleau@ief.u-psud.fr
elisabeth.dufour-gergam@ief.u-psud.fr
|
Etablissement de rattachement : Université Paris-Sud
Etablissements fondateurs : Université Paris-Sud, SUPELEC, INT et Ecole Polytechnique
Filières de formation initiale utilisatrices du pôle en 2005/2006 :
Orsay
|
U. Paris 11
|
Ingénieur
|
3A IFIPS - Electronique et informatique indus. + Optronique
|
Ingénieur
|
2A IFIPS (Formation d’Ingénieur de Paris Sud) - Matériaux + Electronique et informatique industrielle
|
Master pro
|
M2P Systèmes électroniques
|
Master pro
|
M2P Micro-nanotechnologies
|
Master pro
|
M2P Microsystèmes et couches minces
|
Master rech.
|
M2R Micro et nanotechnologies
|
Master rech.
|
M2R EEA – Composants et antennes pour les télécoms
|
Master rech.
|
M2R Nano-systèmes et systèmes inorganiques
|
Master
|
M1 IST (Info. Sys. Techno.)- Conception + Télécom + Nanotech.
|
Master
|
M1 Physique appliquée
|
Licence
|
EEA (Electronique, Electrotechnique et Automatique)
|
ESO
|
Ingénieur
|
3A (Ecole Supérieure Optique)
|
Evry
|
INT
|
Ingénieur
|
3A (Institut Nationale des Télécommunications)
|
INT
|
Ingénieur
|
2A Master of science Télécom
|
U. Evry
|
DRT
|
Matériaux
|
Gif/
Yvette
|
Supélec
|
Ingénieur
|
3A Communication et électronique -
option MCM (Microélectronique, Conception, Modélisation)
|
Ingénieur
|
1A Systèmes logiques et électroniques associés
|
Ingénieur
|
2A électronique RF + Intégration électronique
|
Orléans
|
U.Orl./ESPEO
|
Ingénieur
|
Optique et plasma - spécialité Electronique et optique
|
Versailles
|
U. Versailles
|
Master pro
|
M2P MATEC (Matériaux Technologie des composants)
|
Ville
Avray
|
U. Paris 10
|
Licence pro
|
Tech. Aéronautique et spatial - option équipement de bord
|
DEUST
|
Hyperfréquence
|
Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006 :
IEF Orsay et les laboratoires qui utilisent la centrale technologique universitaire de MINERVE.
Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :
|
Technologie et Caractérisation
heures-personnes
|
Conception et Test
heures-personnes
|
Nombre utilisateurs
|
Formation Initiale (TP + stages +projets)
|
6 172
|
17 376
|
1 103
|
Recherche et doctorants
|
3 300
|
12 342
|
46
|
Formation Continue et transferts
|
275
|
572
|
47
|
Principaux moyens opérationnels :
| -
Salle propre de 180m² avec postes de chimie, gravure plasma, ionique réactive, dépôts électrolytiques, par évaporation, pulvérisation cathodique, PECVD, photolithographie, montage par ultrasons.
| | -
Microscopie optique, MEB, AFM, ellipsométrie, mesures de contraintes, STM
-
Mesures électriques I(V), C(V), sous pointes et hyperfr. (analyseurs de spectres).
| -
Conception et Simulation :
| -
40 PC,
-
Outils CAO du CNFM : Cadence, Eldo, SILVACO,
-
Outils CAO spécifiques : Avant 4, ANSYS,
| | -
Accès au testeur HP 83000 du CNFM,
-
Système de test mixte, analogique et numérique.
|
Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle : 6 M€
Personnel affecté au pôle en 2005/2006 : 1 professeur (directrice de pôle).
pôle cnfm de toulouse
Atelier Interuniversitaire de MicroElectronique
Directeur : Jacques DEGAUQUE
AIME / 135 avenue de Rangueil / 31077 TOULOUSE Cedex 4
|
05.61.55.98.72
|
|
05.61.55.98.70
|
|
degauque@insa-tlse.fr
|
|
Etablissement de rattachement :
|
INSA de Toulouse
|
Etablissements fondateurs :
|
INSA de Toulouse, INP de Toulouse,
Université Paul Sabatier de Toulouse, LAAS-CNRS
|
Filières de formation initiale utilisatrices du pôle en 2005/2006 :
Toulouse
|
INSA
|
Ingénieur
|
5A - Auto. Electronique Intégré - option SE (Systèmes Electroniques)
|
Ingénieur
|
5A Génie Physique - option TRS (Temps Réel et Syst.)
|
Ingénieur
|
5A Génie Physique – option MS (MicroSystèmes)
|
Ingénieur
|
4A Physique
|
Ingénieur
|
2A IMACS
|
U. Paul Sabatier
|
Master rech.
|
EEAS (Electr. Electrotech. Aut. et Sys.) spéc. MEMO (Micro-Ondes Electromagnétisme et optoélectronique)
|
Master rech.
|
M2R EEAS - CCMM (Conc. Circuits Microélec. Microsys.)
|
Master pro
|
M2P EEAS - ICEM (Intégr. des Circ. Elec. et Microélec.)
|
Master pro
|
M2P Mention Infor. - CAMSI (Conception d'Architectures, Machines et Syst. Infor.)
|
Master
|
M1 EEAS - EMMOM (Elec. Microélec. MicroSyst. Optronique Microondes)
|
Master
|
M1 Sciences et matériaux
|
ENSEEIHT
|
Ingénieur
|
3A - option Circuits intégrés
|
Ingénieur
|
Electronique et traitement du signal - option Micro-ondes
|
Mastère
|
Microélectronique
|
ENSIACET
|
Ingénieur
|
3A Matériaux pour l’électronique
|
Lyc. Deodat Severac
|
BTS
|
1A Electronique
|
IUP
|
Master
|
M2 AISEM (Architecture Ingénierie des Systèmes Electroniques Microélectroniques)
|
Master
|
M1 AISEM - Microélectronique
|
Licence
|
AISEM - Microélectronique
|
Bordeaux
|
ENSEIRB
|
Ingénieur
|
3A - option Microélectronique et Télécoms
|
U. Bordeaux I
|
Master pro
|
M2P EEA - Achat Indus. des Composants Electro. (AICE)
|
Master pro
|
EEA (Elec. Electrotech. Automatisme) - Microélectronique
|
Master pro
|
EEA - Qualité et fiabilité des circuits et syst. électroniques
|
Licence
|
ST-EEA
|
Limoges
|
ENSIL
|
Ingénieur
|
3A Electron. Télécom. Instrum. ou 3A trait. de surface
|
U. Limoges
|
Master
|
M1 Procédés et matériaux
|
Master
|
M1 EEA Elec. Electrotech Autom.
|
Marseille
|
Polytech
|
Ingénieur
|
3A - option Microélectronique et télécoms
|
ISMEA ESIM
|
Ingénieur
|
3A Microélectronique appliquée
|
Ecole centrale
|
Ingénieur
|
3A - option Microélectronique et systèmes avancés
|
Un. Paul Cézanne
|
Master pro
|
M2P Microélectronique
|
Licence
|
IMOE (Ingénierie en Micro-Opto-Electronique)
|
IUT
|
IUT
|
Mesures physiques
|
Montpellier
|
Polytech
|
Ingénieur
|
3A département MEA (MicroElec. et Automatisme)
|
Tours
|
Polytech Tours
|
Ingénieur
|
3A - option Electronique et conversion de l’énergie
|
U. François Rabelais
|
Licence pro
|
EE (Electricité et Electronique) option Electronique et microélectronique
|
Albi
|
ENSTIMAC
|
Ingénieur
|
4A Matériaux pour l’aéronautique et le spatial
|
Brésil
|
Univ de Santos
|
Master rech.
|
M2R Microélectronique
|
Espagne Bilbao
|
Université Pais Vasco
|
Master rech.
|
M2R Microélectronique
|
Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006 :
-
Toulouse : LAAS, LNCMP, EADS-ASTRIUM, LGET, IRIT, CESR, ENSAE-CIMI, ENSIACET, LNMO, CNES, LEN7, ONSEMICONDUCTORS, LESIA, OPTOMESURES
-
Univ. LIBEREC, Institut chimie des surfaces (Mulhouse), XILIM (Faculté de Sciences de Limoges)
Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :
|
Technologie et Caractérisation
heures-personnes
|
Conception et Test
heures-personnes
|
Nombre utilisateurs
|
Formation Initiale (TP + stages + projets)
|
13 343
|
10 668
|
601
|
Recherche et doctorants
|
212
|
560
|
17
|
Formation Continue et Transfert
|
520
|
300
|
38
|
Principaux moyens opérationnels :
|
Salle blanche équipée avec tout l’environnement permettant la réalisation complète de circuits intégrés silicium :
9 fours (oxydation, dopages, recuits), 3 bâtis de dépôt LPCVD, 1 implanteur ionique, 1 bâti de dépôt métal par pulvérisation cathodique, 1 bâti de dépôt métal par évaporation, délaquage plasma et gravure ionique réactive, 2 machines de photolithographie.
1 scie pour microdécoupe, report et montage des puces, microsoudure des connexions.
| | -
Microscopie optique et microscopie électronique à balayage, ellipsomètre, profilomètre, spreading résistance.
-
Testeur sous pointes piloté par ordinateur, caractérisation électrique I(V), C(V),…
| | -
15 stations de travail, plate-forme ARM, Excalibur / ALTERA
-
Outils CAO du CNFM : Cadence, Silvaco, Anacad, Altera, Xilinx
-
Outils CAO spécifiques : Synopsys, Mentor, HSPICE, AGILENT-ADS, Coventor
| | -
Accès au testeur HP 83000 du CNFM
-
Testeur Tektronix LV500
|
Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle :
6,3 M€
Personnel affecté au pôle en 2005/2006 :
-
1 professeur (directeur de pôle),
-
2 secrétaires,
-
4 ingénieurs, 2 assistants - ingénieurs, 1 techniciens.
service national
de logiciels du cnfm
Centre national de Ressources en CAO du CNFM (CRCC)
Responsable : Lionel TORRES
CRCC-PCM / 161 rue Ada / 34392 MONTPELLIER Cedex 5
-
|
04.67.41.85.67
|
|
04.67.41.85.00
|
|
crcc@cnfm.fr
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Etablissement de rattachement : Université Montpellier II
Objectifs du crcc :
Placé sous la responsabilité du pôle CNFM de Montpellier, le CRCC a pour tâche l’anticipation et la réponse aux besoins, en matière d’outils de CAO et de matériel de prototypage, des établissements de formation en microélectronique.
Pour se faire, le CRCC assure l'interface entre les fournisseurs et les pôles du CNFM. Il recense les besoins, évalue les outils disponibles, propose des choix, passe des accords avec les fournisseurs, met à disposition, moyennant une participation aux frais, logiciels de CAO et matériels de prototypage, apporte une aide à l'utilisation, organise la formation des formateurs.
Pour tenir compte des efforts financiers consentis par les fournisseurs, l’usage des outils de CAO mis à la disposition des établissements par le CRCC est réservé à l’enseignement et à la recherche académique.
Moyens du crcc :
Cadence
Ces outils couvrent toute la conception des circuits depuis la simulation « système » jusqu’au layout et au circuit imprimé, y compris pour les technologies submicroniques et les radiofréquences. La liste des outils est remise à jour tous les ans afin de bénéficier des progrès de la technologie. En 2005, les outils mis à disposition comprenaient entre autres :
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pour la conception de circuits pré-caractérisés : NC-Sim (Vhdl/Verilog), Ambit (Synthèse), Silicon-Ensemble et Soc Encounter (Placement-routage), Dracula (Vérification), CeltIC (caractérisation).
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Pour la conception de circuits sur-mesure : Spectre (Simulation), Virtuoso (layout), Diva (vérification).
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Pour la conception de systèmes sur carte : Concept, Allegro, Spectra et Package.
Pour l’année universitaire 2005-2006, 53 sites ont demandé à utiliser les outils Cadence, chacun ayant à sa disposition un nombre de licences illimité. A titre d’information, le prix « catalogue » de ces logiciels pour un utilisateur (un « siège ») est d’environ 4,2M€.
SOFTMEMS
Cet ensemble de logiciels de CAO pour micro-systèmes (MEMS) comprend deux « produits » : MEMSxplorer et MEMSpro. MEMSxplorer est un environnement de conception qui s’intègre dans un flot de CAO tel que celui de Cadence. MEMSpro est un environnement basé sur les outils de CAO Tanner.
Ces logiciels sont implantés sur 4 sites à raison de 20 « sièges » par site.
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