Magİstratura mərkəz

Şüşənin səthindən işığın əks olunması. Əks olunma zamanı işığın polya­ri­za­si­yası baş verir. Dielektrikdən əks olunma zamanı polyarizasiyanın ən böyük dərəcəsi o zaman baş verir ki, əks olunan və sınan şüalar arasındakı bucaq 90 olsun və ya mühitin sındırma göstəricisi ədədi qiymətcə düşmə bucaqlarının tangensinə bərabər olsun: n=tg.

Kəskin şüşə hava sərhəddindən əks olunan işıq şüası xətti polyarlaşmış olur. Əks olunmuş şüanın intensivliyinin düşən şüanın intensivliyinə nisbəti əks etdirmə əmsalı adlanır:

Düşmə bucağı nə qədər böyük olarsa, əksetdirmə əmsalı da böyük olar. normal düşən şüanın hava – əksetdirici mühit sərhəddindən əksolunma əmsalı aşağıdakı kimi olacaqdır:

Burada: n – əksetdirici mühitin sındırma göstəricisidir.

«Kron» tipli şüşələr üçün sındırma əmsalı n_D=1,53, əksetdirmə əmsalı R=4,3%; adi flint şüşələri üçün n_D=1,6, R=5,3%; ağır flint tipli şüşələr üçün (tərkibində PbO-i çox olan şüşələr) n_D=1,65 və R=6,1%. Əgər şüşənin səthində başqa sındırma göstəricisinə malik nazik təbəqə olarsa, əksetdirmə zamanı şüşənin üst qatından və örtük təbəqəsindən əks olunan şüalar interferensiya yaradacaqdır. İnterferensiya nəticəsində cəmlənmiş şüanın intensivliyi plyonka qatı olmayan şüşə səthindən əks olunan şüanın intensivliyi ilə müqayisədə arta bilər və azala bilər. Əgər səth qatının sındırma göstəricisi mühitin sındırma göstəricisindən azdırsa, onda əksetdirmə əmsalının azalması müşahidə edilir. Əks halda isə əksetdirmə əmsalı çoxalacaqdır.

Minimal əksetdirmə bu halda aşağıdakı kimi olacaqdır:

1)

Burada: n_st – şüşənin sındırma göstəricisi, n_t – təbəqənin sındırma göstəricisi.

2) və

Burada: h – həndəsi, d – isə təbəqənin optiki qalınlığıdır,  - dalğa uzunluğudur.

Əksetdirmə əmsalının azaldılması optiki-mexaniki sənayedə bir çox optiki ci­hazların işıq gücünü artırmaq və keyfiyyətini yüksəltmək üsulu kimi geniş tətbiq edi­lir. Beləliklə, güclü əksetdirici səthə malik bəzi optiki qurğularda müşahidəçinin gö­zü­nə cəmi 12% işıq düşür. Beləliklə, işığın intensivliyinin ümu­mi itkisi 88% olur. Bu 88%-dən yalnız 10-12%-i şüşənin özünün işıqlanmasına sərf olur, qalan 78-76% isə əksolunmada itir. Bu əks olub, səpələnmiş işıq refleks­lərin yaranmasına səbəb olur ki, bu da şəffaf fon yaradaraq əksin kontrastlığını azaldır.

Optiki şüşə detalların səthindən əksetdirmə əmsalını azaltmaq və eyni zamanda cihazın işıqgücünü artırmaq üçün detalların səthində xüsusi müəyyən edilmiş qalın­lıqda və xüsusi sındırma əmsalına malik təbəqə yaradılır. Bu adətən qalınlığı 1350A olan silisium, ftoridli maqnezium və ya kalsium, bəzən də mürəkkəb duz qatı ola bi­lər. Bu üsul, yəni optiki detalların səthinin emalı optikanın şəffaflaşdırılması adlanır. Ha­zırki dövrdə şəffaflaşdırma əksetdirmə əmsalını 4-5%-dən 0,7-0,3% qədər endirir.

Şüşənin səthində sındırma əmsalı şüşələrin sındırma əmsalından çox olan nazik plyonkanın yaranması şüşə səthinin əksetdirmə əmsalını artırır. Bu da həmçinin işıq­ayırıcılarının və işıq süzgəclərinin istehsalında öz praktik tətbiqini tapmışdır. Müx­tə­lif oksidlərin kimyəvi və mexaniki davamlı təbəqələrinin yaradılması şüşəqayır­maya tez-tez dekorasiya məqsədilə, irrizasiyalı qatların yaradılmasında, interfer çalarlarına boyanmada və ya yüksək əksetdirici nazik lyustr qatının yaradılmasında tətbiq edilir.