241
nixrom elektrodlarni shakllantirishda nikel va xrom ionlari ikkita turli nishondan
changlanishi mumkin.
4.10- rasm. Vakuum kamerada ionli changlash
Gaz fazadan kimyoviy o‘tirgizish.
Bu texnologiyadan optik,
optoelektron va
elektron qurilmalarni tayyorlashda foydalaniladi. Datchiklarni ishlab chiqarishda
ko‘pincha optik darchalarni shakllantirish yoki yarim o‘tkazgich tagliklar yuzasiga
yupqa yoki qalin kristall plenkalarni qoplash zarur bo‘ladi.
Kimyoviy o‘tirg‘izish jarayoni reaktorda o‘tkaziladi, uning soddalashtirilgan
sxemasi 4.41-rasmda keltirilgan. Tagliklar statsionar
yoki aylanuvchi stolga
joylashtiriladi, stolning harorati maxsus qizdirgich yordamida talab qilinadigan
darajagacha ko‘tariladi. Reaktorning yuqorigi qopqog‘ida maxsus aralashmalarga
ega bo‘lgan vodorodni kiritish uchun teshik mavjud, ular tagliklarning qizdirilgan
yuzasi ustida ko‘chish bilan ularga o‘tiradi – yupqa plenkani shakllantiradi. Gaz
odatda reaktorning markaziy qismidan kiritiladi. Reaktordagi gazning o‘rtacha
bosimi 1
atm atrofida, ba’zan undan pastroq bo‘ladi. Masalan, lnP taglikda 1,4
mkm/s tezlik bilan 6000 mkm qalinlikdagi
plenkani hosil qilish
uchun 630
harorat va 1 atm bosimni ta’minlash talab qilinadi.
242
4.41-rasm. Gaz fazadan kimyoviy o‘tirg‘izish jarayonini o‘tkazish uchun
mo‘ljallangan reaktorning soddalashtirilgan sxemasi
Dostları ilə paylaş: