Groupement d’Intérêt Public pour la Coordination Nationale de la Formation en Micro et nanoélectronique gip cnfm


Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006



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Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006 :

LIRMM (Montpellier II) : Départements Microélectronique et Robotique

IES

Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :





Conception et Test

heures-personnes

Nombre utilisateurs

Formation Initiale (TP + stages + projets)

44 881

558

Recherche (doctorants)

27 000

39

Formation Continue

2 000

101



Principaux moyens opérationnels :


Les locaux du PCM, inaugurés en 2002, abritent :

2 salles de formation équipées en station de travail et PC (40 postes), 2 salles d’expérimentation (plates-formes FPGA-SOC), 1salle de réunion, 1 salle abritant le testeur et le secrétariat du pôle.




  • Conception :

  • Outils CAO du CNFM : tous les outils (le pôle de Montpellier abrite le CRCC).




  • Test :

  • Le pôle de Montpellier abrite le testeur HP 83000 du CRTC depuis 1998.






Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle :
0,53 M€ (hors services nationaux)

Personnel affecté au pôle en 2005/2006 :


  • 1 professeur (directeur de pôle), 1 professeur directeur adjoint (co-directeur),

  • 2 ingénieurs à temps partiel (réseaux et infrastructure),

  • 1 secrétaire (25%).

pôle cnfm de L’OUEST
Centre Commun de Microélectronique de l’Ouest
Directeur : Olivier BONNAUD - Directeur adjoint : Raphaël GILLARD

CCMO / Université Rennes I / Bât 11B / Campus de Beaulieu / 35042 RENNES Cedex






02.23.23.60.71

02.23.23.86.61





02.23.23.56.57

02.23.23.34.39





Olivier.Bonnaud@univ-rennes1.fr

raphael.gillard@insa-rennes.fr


Etablissement de rattachement : Université Rennes 1



Etablissements fondateurs : Université Rennes 1, SUPELEC, INSA de Rennes
Filières de formation initiale utilisatrices du pôle en 2005/2006 :


Rennes

Univ.Rennes 1

Master pro

M2P mention Electronique - spécialité CMM (Composants Microélectroniques et Microsystèmes)

Master pro

M2P mention Mécanique - spécialité Mécatronique

Master rech.

M2R mention Electronique - MARS (Microélec., Archi. Réseaux et Syst.) parcours Archi et microtechno. + Systèmes et réseaux

Master

M1 Electronique : UE Technologie et capteur + Conception + Technologie des composants + Projet labo

Licence Pro

3A Mécatronique

INSA Rennes

Ingénieur

3A ESC (Electronique & Syst. de Com)

Ingénieur

2A MNT (Matériaux NanoTechnologie)

Angers

ESEO

Ingénieur

3A MMC (Microélec., Microonde, appliquées aux Com.)

Ingénieur

2A Tronc commun + Microélectronique

Bordeaux

Univ. Bordeaux 1

Licence pro

Production et transformation électronique et information des systèmes industriels

Caen

ENSICAEN

Ingénieur

3A + 2A Microélectronique

Nantes

Polytech

Ingénieur

3A SEII (Système électronique et Informatique Industrielle)

Univ. Nantes

Master pro

M2P CMOQCEO (Concep., Mise en Œuvre et Qualité des Composants Electroniques et Optoélectronique)


Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006 :

IETR (Institut d’Electronique et de Télécom. de Rennes), GREYC (Groupe de recherche en informatique, image, automatique et instrumentation de Caen), IMN (Institut des Matériaux de Nantes), CEGELY (Centre de Génie Electrique de Lyon), activités en collaboration avec U. INSERM 522 et Institut de Chimie de Rennes


Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :





Technologie et Caractérisation

heures-personnes

Conception et Test

heures-personnes

Nombre utilisateurs

Formation Initiale (TP + stages + projets)

5 178

13 419

476

Recherche et doctorants

6 300

4 200

19

Formation continue

822

0

25


Principaux moyens opérationnels :


  • Technologie

  • Fours à diffusion-oxydation-recuit équipements de photolithogravure, gravure plasma, bâtis d’évaporation, bâtis de dépôts,

  • Caractérisation:

  • Mesures électriques I(V), C(V), test sous pointes, analyseurs de réseaux, analyseurs de spectres,

  • Conception :

  • 8 stations de travail, 20 PC,

  • Outils CAO du CNFM : Cadence, Altera, Xilinx,

  • Outils CAO spécifiques : ADS, COSSAP, SupremIV,

  • Test :

  • Accès au testeur HP 83000 du CNFM,

  • Analyseurs logiques.


Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle : 2,5 M€
Personnel affecté au pôle en 2005/2006 :


  • 2 professeurs (directeur de pôle et directeur adjoint)

  • 1 secrétaire, 1 technicien à 80 % et 1 technicien à 30 %.


pôle cnfm de La région Paca

Directeur : Rachid BOUCHAKOUR Directeur adjoint : Gilles JACQUEMOD

IMT Technopôle de Château Gombert / 13451 MARSEILLE Cedex 20




04.91.05.45.28



04.91.05.45.29



Rachid.Bouchakour@Polytech.univ-mrs.fr

Site web : www.cnfmpaca.fr





Etablissement de rattachement :

Université de Provence – Aix Marseille I

Etablissements fondateurs :

U. d’Aix-Marseille I ; U. d’Aix-Marseille II, U. d’Aix-Marseille III, Ecole Généraliste d’Ingé. de Marseille (EGIM), Institut Supérieur de Microélectronique et Applications (Groupe ESIM), U. de Toulon et du Var, Institut Supérieur d’Electronique et du Numérique Toulon, U. de Nice Sophia Antipolis

Etablissements associés :

EURECOM ; Centre de Microélectronique de Provence (EnSMSE) ; ESIEE/CERAM antenne de Sophia



Filières de formation initiale utilisatrices du pôle en 2005/2006 :


Marseille

Polytech

Ingénieur

3A MT (Microélectronique et Télécoms) - option Microélectronique + Télécoms

Ingénieur

2A MT - Tronc commun

Master rech.

M2R MINELEC (Microélectronique et Nanoélectronique) – spécialité microélectronique

IUT

Licence pro

EISI (Electronique et Informatique des Systèmes Industriels) - mention MMS (Microélectronique et MicroSystèmes)

Licence pro

Télécommunications

Gardanne

ENSMSE


Ingénieur

3A ISMEA (Ingénieurs Spécialisés en MicroElectronique. et Applications) - CME (Conception MicroElectronique) + ISE (Ingénierie des Systèmes Embarqués)

Ingénieur

2A ISMEA

Ingénieur

2A Ingénieur Civil des Mines (ICM)

Ingénieur

3A ISFEN Formation continue

Master spéc.

TMPM (Technologie et Management de la Production Microélec.)

Nice

Polytech

Ingénieur

3A TNS (Traitement Numérique du Signal)

Ingénieur

3A TR (Télécoms et Réseau)

Ingénieur

3A – option MI (Microélectronique et Instrumentation) + Génie des Systèmes Embarqués

Ingénieur

2A Tronc Commun + MI + Génie des Systèmes Embarqués

Ingénieur

2A Informatique

UNSA

Master pro

M2P - option Télécoms, informatique et microélectronique

Master rech.

M2R Télécoms RF et microélectronique

Master

M1 EEA (Electronique Electrotechnique et Automatique)

Licence

EEA

Toulon

ISEN

Ingénieur

2A + 3A - option Télécommunications


Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006:
L2MP (Marseille et Toulon), LEAT, I2S, EUROCOM-ENST (Nice Sophia Antipolis), CMP-GC (Gardanne)

Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :





Conception et Test

heures-personnes

Nombre utilisateurs

Formation Initiale (TP + stages + projets)

34 534

632

Doctorants et Chercheurs

45 000

90

Formation continue et Transfert

54

4


Principaux moyens opérationnels :
6 salles de Conception réparties sur 4 sites



  • Conception 

  • Outils du CNFM : Cadence, Silvaco, Altera, Anadigm, Xilinx, Synopsis, ADS, ISE

  • Test :

  • Accès au testeur HP 83000 du CNFM.


Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle :
480k€

Personnel affecté au pôle en 2005/2006 :


  • 1 professeur (directeur de pôle), 1 professeur (directeur adjoint de pôle), 1 Maître de Conférence,
    2 Enseignants chercheurs




  • 1 secrétaire à environ 30 %, 1 ingénieur d’étude informaticien à 50 %.


pôle cnfm de PARIS îLE-DE-FRANCE
CEntre de MIcroélectronique de Paris Ile de France

Directeur : Jean-Jacques GANEM


CEMIP / Universités Paris 6 et 7 / Case Courrier 7102 / Tour 23-13 / 4ème étage / Porte 22

2 Place Jussieu / 75251 PARIS Cedex 05






01.44.27.46.34



01.44.27.46.34



ganem@gps.jussieu.fr

Etablissement de rattachement : Université Pierre et Marie Curie (Paris 6)



Etablissements fondateurs : Universités Paris 6 et Paris 7, ESPCI, ESIEE, ENST, ISEP, ENSEA
Filières de formation initiale utilisatrices du pôle en 2005/2006 :


Paris Ile de

France

ENSEA

Ingénieur

3A - option ECM (Electro. Comm. Microondes) + Tronc commun

Ingénieur

3A - option Informatique et Systèmes (IS) + Tronc commun

Ingénieur

2A Circuits intégrés numériques + Microélectronique analogique + Microsystème + Electronique large bande




Ingénieur

1A Circuits intégrés analogiques

ENST

Ingénieur

1A + 2A Electronique intégrée

Ingénieur

2A + 3A Cycle optionnel unifié

Master

Dispositifs et techniques de communication

Master

MSC Master of Science in Electrical Engineering

ESIEE

Ingénieur

5A + 4A systèmes électroniques et microélectroniques

Ingénieur

3A tronc commun

Master

Micro Electro Mechanical Systems (MEMS)

ESPCI

Ingénieur

3A + 1A

ESTE

Technologue

2A Cycle optionnel unifié +
3A Electronique et microélectronique

ISEP

Ingénieur

3A ISyM (Intégration des Systèmes Monopuce)

Ingénieur

2A

Ingénieur

1A Mesures électroniques et Simulation

Paris 6

Ingénieur

3A + 2A + 1A IFITEP (Institut de Formation D'ingénieur en Technologies Electroniques)

Ingénieur

3A IST (Institut Science et Technologie) - spécialité Informatique et électronique

Master

M2 ESCO (Elec. et Sys. de com.)- option Electronique des Systèmes Embarqués) + STN (Systèmes de Télécommunications Numériques)

Master

M2 Informatique - ACSI (Arch. des circuits et Systèmes Intégrés) + option SE (Systèmes Electroniques)

Master

M1 Informatique – ACSI + réseaux + systèmes et applications réparties

Master

M1 SDI (Science De l’Ingénieur) Tronc commun

Licence

Science et Technique de l’Ingénieur STIC - option CAO électronique

Univ Cergy

Maîtrise

Sciences Physiques


Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006 :


  • LIP6 (Laboratoire d’Informatique de Paris 6)

  • LISIF (Laboratoire d’Instrumentation et Systèmes de l’Ile de France)

  • INSP (Institut des Nanosciences de Paris)

  • Laboratoires de :

ENST (Ecole Nationale Supérieure des Télécommunications)

ESIEE (Ecole Supérieure d’Ingénieur en Electronique et Electrotechnique)



ISEP (Institut Supérieur d’Electronique de Paris)


Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :






Technologie et Caractérisation

heures-personnes

Conception et Test

heures-personnes

Nombre utilisateurs

Formation Initiale (TP + stages + projets)

16 490

136 374

2 010

Recherche (doctorants)

1 790

52 300

71

Formation Continue

2 584

279

101


Principaux moyens opérationnels :



  • Technologie

  • Salle blanche de 300m² permettant la réalisation complète de circuits intégrés silicium ; 2 ensembles de fours, poste alignement double face, soudure, gravure profonde, … pulvérisation, …

  • Gravure alumine, aligneur de masque, report de composants, micro-connectique,…




  • Caractérisation :

  • Microscopie optique et microscopie électronique à balayage, mesures de profondeur, ellipsométrie, spectrométrie IR, profilométrie optique, vitrométrie laser,

  • Test sous pointes, analyseurs de réseaux, de spectres,

  • Caractérisation électrique C(V), I(V) (sous pointes, sous champ magnétique,…).




  • Conception :

  • 131 stations de travail, 48 PC, 12 terminaux X,

  • Outils CAO du CNFM : Cadence, Eldo, Silvaco, Altera, Xilinx,

  • Outils CAO spécifiques : Alliance, Synopsys, Mentor Modelsim, HSPICE,
    HP-ADS, HFSS, SONET, SimulNN, NeuroOne, Microcosm, ANSYS, PowerMill, VHDL.




  • Test :

  • Accès au testeur HP 83000 du CNFM,

  • Testeur Tektronix LV500.


Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle :
3,5 M€


Personnel affecté au pôle en 2005/2006 :


  • 1 maître de conférences (directeur de pôle),

  • 1 secrétaire,

  • 2 ingénieurs et 1 assistant ingénieur à 30 %.




pôle cnfm de paris-sud orsay
Pôle MIcroélectronique de Paris-Sud
Directrice : Sylvie RETAILLEAU – Directrice adjointe : ELisabeth Dufour-Gergam
PMIPS – IEF / Bâtiment 220 / Université Paris-Sud / 91405 ORSAY Cedex



01.69.15.78.05



01.69.15.40.20



sylvie.retailleau@ief.u-psud.fr

elisabeth.dufour-gergam@ief.u-psud.fr



Etablissement de rattachement : Université Paris-Sud

Etablissements fondateurs : Université Paris-Sud, SUPELEC, INT et Ecole Polytechnique


Filières de formation initiale utilisatrices du pôle en 2005/2006 :


Orsay

U. Paris 11

Ingénieur

3A IFIPS - Electronique et informatique indus. + Optronique

Ingénieur

2A IFIPS (Formation d’Ingénieur de Paris Sud) - Matériaux + Electronique et informatique industrielle

Master pro

M2P Systèmes électroniques

Master pro

M2P Micro-nanotechnologies

Master pro

M2P Microsystèmes et couches minces

Master rech.

M2R Micro et nanotechnologies

Master rech.

M2R EEA – Composants et antennes pour les télécoms

Master rech.

M2R Nano-systèmes et systèmes inorganiques

Master

M1 IST (Info. Sys. Techno.)- Conception + Télécom + Nanotech.

Master

M1 Physique appliquée

Licence

EEA (Electronique, Electrotechnique et Automatique)

ESO

Ingénieur

3A (Ecole Supérieure Optique)

Evry

INT

Ingénieur

3A (Institut Nationale des Télécommunications)

INT

Ingénieur

2A Master of science Télécom

U. Evry

DRT

Matériaux

Gif/
Yvette

Supélec

Ingénieur

3A Communication et électronique -
option MCM (Microélectronique, Conception, Modélisation)

Ingénieur

1A Systèmes logiques et électroniques associés

Ingénieur

2A électronique RF + Intégration électronique

Orléans

U.Orl./ESPEO

Ingénieur

Optique et plasma - spécialité Electronique et optique

Versailles

U. Versailles

Master pro

M2P MATEC (Matériaux Technologie des composants)

Ville
Avray

U. Paris 10

Licence pro

Tech. Aéronautique et spatial - option équipement de bord

DEUST

Hyperfréquence


Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006 :
IEF Orsay et les laboratoires qui utilisent la centrale technologique universitaire de MINERVE.
Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :





Technologie et Caractérisation

heures-personnes

Conception et Test

heures-personnes

Nombre utilisateurs

Formation Initiale (TP + stages +projets)

6 172

17 376

1 103

Recherche et doctorants

3 300

12 342

46

Formation Continue et transferts

275

572

47


Principaux moyens opérationnels :


  • Technologie :

  • Salle propre de 180m² avec postes de chimie, gravure plasma, ionique réactive, dépôts électrolytiques, par évaporation, pulvérisation cathodique, PECVD, photolithographie, montage par ultrasons.

  • Caractérisation :

  • Microscopie optique, MEB, AFM, ellipsométrie, mesures de contraintes, STM

  • Mesures électriques I(V), C(V), sous pointes et hyperfr. (analyseurs de spectres).

  • Conception et Simulation :

  • 40 PC,

  • Outils CAO du CNFM : Cadence, Eldo, SILVACO,

  • Outils CAO spécifiques : Avant 4, ANSYS,

  • Test :

  • Accès au testeur HP 83000 du CNFM,

  • Système de test mixte, analogique et numérique.


Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle : 6 M€
Personnel affecté au pôle en 2005/2006 : 1 professeur (directrice de pôle).

pôle cnfm de toulouse
Atelier Interuniversitaire de MicroElectronique

Directeur : Jacques DEGAUQUE

AIME / 135 avenue de Rangueil / 31077 TOULOUSE Cedex 4




05.61.55.98.72



05.61.55.98.70



degauque@insa-tlse.fr




Etablissement de rattachement :

INSA de Toulouse

Etablissements fondateurs :

INSA de Toulouse, INP de Toulouse,

Université Paul Sabatier de Toulouse, LAAS-CNRS




Filières de formation initiale utilisatrices du pôle en 2005/2006 :


Toulouse

INSA

Ingénieur

5A - Auto. Electronique Intégré - option SE (Systèmes Electroniques)

Ingénieur

5A Génie Physique - option TRS (Temps Réel et Syst.)

Ingénieur

5A Génie Physique – option MS (MicroSystèmes)

Ingénieur

4A Physique

Ingénieur

2A IMACS

U. Paul Sabatier

Master rech.

EEAS (Electr. Electrotech. Aut. et Sys.) spéc. MEMO (Micro-Ondes Electromagnétisme et optoélectronique)

Master rech.

M2R EEAS - CCMM (Conc. Circuits Microélec. Microsys.)

Master pro

M2P EEAS - ICEM (Intégr. des Circ. Elec. et Microélec.)

Master pro

M2P Mention Infor. - CAMSI (Conception d'Architectures, Machines et Syst. Infor.)

Master

M1 EEAS - EMMOM (Elec. Microélec. MicroSyst. Optronique Microondes)

Master

M1 Sciences et matériaux

ENSEEIHT

Ingénieur

3A - option Circuits intégrés

Ingénieur

Electronique et traitement du signal - option Micro-ondes

Mastère

Microélectronique

ENSIACET

Ingénieur

3A Matériaux pour l’électronique

Lyc. Deodat Severac

BTS

1A Electronique

IUP

Master

M2 AISEM (Architecture Ingénierie des Systèmes Electroniques Microélectroniques)

Master

M1 AISEM - Microélectronique

Licence

AISEM - Microélectronique

Bordeaux

ENSEIRB

Ingénieur

3A - option Microélectronique et Télécoms

U. Bordeaux I

Master pro

M2P EEA - Achat Indus. des Composants Electro. (AICE)

Master pro

EEA (Elec. Electrotech. Automatisme) - Microélectronique

Master pro

EEA - Qualité et fiabilité des circuits et syst. électroniques

Licence

ST-EEA

Limoges

ENSIL

Ingénieur

3A Electron. Télécom. Instrum. ou 3A trait. de surface

U. Limoges

Master

M1 Procédés et matériaux

Master

M1 EEA Elec. Electrotech Autom.

Marseille

Polytech

Ingénieur

3A - option Microélectronique et télécoms

ISMEA ESIM

Ingénieur

3A Microélectronique appliquée

Ecole centrale

Ingénieur

3A - option Microélectronique et systèmes avancés

Un. Paul Cézanne

Master pro

M2P Microélectronique

Licence

IMOE (Ingénierie en Micro-Opto-Electronique)

IUT

IUT

Mesures physiques

Montpellier

Polytech

Ingénieur

3A département MEA (MicroElec. et Automatisme)

Tours

Polytech Tours

Ingénieur

3A - option Electronique et conversion de l’énergie

U. François Rabelais

Licence pro

EE (Electricité et Electronique) option Electronique et microélectronique

Albi

ENSTIMAC

Ingénieur

4A Matériaux pour l’aéronautique et le spatial

Brésil

Univ de Santos

Master rech.

M2R Microélectronique

Espagne Bilbao

Université Pais Vasco

Master rech.

M2R Microélectronique


Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006 :


  • Toulouse : LAAS, LNCMP, EADS-ASTRIUM, LGET, IRIT, CESR, ENSAE-CIMI, ENSIACET, LNMO, CNES, LEN7, ONSEMICONDUCTORS, LESIA, OPTOMESURES

  • Univ. LIBEREC, Institut chimie des surfaces (Mulhouse), XILIM (Faculté de Sciences de Limoges)



Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :






Technologie et Caractérisation

heures-personnes

Conception et Test

heures-personnes

Nombre utilisateurs

Formation Initiale (TP + stages + projets)

13 343

10 668

601

Recherche et doctorants

212

560

17

Formation Continue et Transfert

520

300

38



Principaux moyens opérationnels :


  • Technologie :

Salle blanche équipée avec tout l’environnement permettant la réalisation complète de circuits intégrés silicium :

9 fours (oxydation, dopages, recuits), 3 bâtis de dépôt LPCVD, 1 implanteur ionique, 1 bâti de dépôt métal par pulvérisation cathodique, 1 bâti de dépôt métal par évaporation, délaquage plasma et gravure ionique réactive, 2 machines de photolithographie.

1 scie pour microdécoupe, report et montage des puces, microsoudure des connexions.


  • Caractérisation :

  • Microscopie optique et microscopie électronique à balayage, ellipsomètre, profilomètre, spreading résistance.

  • Testeur sous pointes piloté par ordinateur, caractérisation électrique I(V), C(V),…




  • Conception :

  • 15 stations de travail, plate-forme ARM, Excalibur / ALTERA

  • Outils CAO du CNFM : Cadence, Silvaco, Anacad, Altera, Xilinx

  • Outils CAO spécifiques : Synopsys, Mentor, HSPICE, AGILENT-ADS, Coventor




  • Test :

  • Accès au testeur HP 83000 du CNFM

  • Testeur Tektronix LV500



Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle :

6,3 M€


Personnel affecté au pôle en 2005/2006 :



  • 1 professeur (directeur de pôle),

  • 2 secrétaires,

  • 4 ingénieurs, 2 assistants - ingénieurs, 1 techniciens.



service national
de logiciels du cnfm

Centre national de Ressources en CAO du CNFM (CRCC)
Responsable : Lionel TORRES
CRCC-PCM / 161 rue Ada / 34392 MONTPELLIER Cedex 5



04.67.41.85.67



04.67.41.85.00



crcc@cnfm.fr

Etablissement de rattachement : Université Montpellier II



Objectifs du crcc :
Placé sous la responsabilité du pôle CNFM de Montpellier, le CRCC a pour tâche l’anticipation et la réponse aux besoins, en matière d’outils de CAO et de matériel de prototypage, des établissements de formation en microélectronique.

Pour se faire, le CRCC assure l'interface entre les fournisseurs et les pôles du CNFM. Il recense les besoins, évalue les outils disponibles, propose des choix, passe des accords avec les fournisseurs, met à disposition, moyennant une participation aux frais, logiciels de CAO et matériels de prototypage, apporte une aide à l'utilisation, organise la formation des formateurs.

Pour tenir compte des efforts financiers consentis par les fournisseurs, l’usage des outils de CAO mis à la disposition des établissements par le CRCC est réservé à l’enseignement et à la recherche académique.

Moyens du crcc :
Cadence

Ces outils couvrent toute la conception des circuits depuis la simulation « système » jusqu’au layout et au circuit imprimé, y compris pour les technologies submicroniques et les radiofréquences. La liste des outils est remise à jour tous les ans afin de bénéficier des progrès de la technologie. En 2005, les outils mis à disposition comprenaient entre autres :



  • pour la conception de circuits pré-caractérisés : NC-Sim (Vhdl/Verilog), Ambit (Synthèse), Silicon-Ensemble et Soc Encounter (Placement-routage), Dracula (Vérification), CeltIC (caractérisation).

  • Pour la conception de circuits sur-mesure : Spectre (Simulation), Virtuoso (layout), Diva (vérification).

  • Pour la conception de systèmes sur carte : Concept, Allegro, Spectra et Package.

Pour l’année universitaire 2005-2006, 53 sites ont demandé à utiliser les outils Cadence, chacun ayant à sa disposition un nombre de licences illimité. A titre d’information, le prix « catalogue » de ces logiciels pour un utilisateur (un « siège ») est d’environ 4,2M€.
SOFTMEMS

Cet ensemble de logiciels de CAO pour micro-systèmes (MEMS) comprend deux « produits » : MEMSxplorer et MEMSpro. MEMSxplorer est un environnement de conception qui s’intègre dans un flot de CAO tel que celui de Cadence. MEMSpro est un environnement basé sur les outils de CAO Tanner.

Ces logiciels sont implantés sur 4 sites à raison de 20 « sièges » par site.


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