Resim 2a: impulslu çalışmada, deney örneği yüzeyindeki sertlik
dağılımı.
Işın parametreleri: U = 130 kV, l = 10 mA
VS D
1000
900
800
700
600
500
100
IŞIN PARAMETRELERİNİN ETKİSİ
Sertleşme için en uygun sıcaklık çevrimi (ısıtma-kısa tut-
ma sür esi-ç ok hızlı soğutma) yaklaşık 10*1 ile 10"4 saniye-
lik süreler içinde gerçekleşir. Bunun için iki çalışma biçimin-
den biri amaca uygun olarak seçilir:
1) Sürekli ışın ile sertleştirme;
Bu yöntemde ışın iş parçası yüzeyi üzerinde uygun bir
ilerleme hızı ile bağıl olarak ilerler. Sertleştirilecek bölgele-
rin geometrisine göre ışın saptırılır ya da iş parçası hareket
ettirilerek ışının odak noktası yürütülmüş olur.
2) impulslu ışın ile sertleştirme;
Herbir ışın impulsu iş parçası yüzeyinde küçük bir daire-
sel bölgeyi sertleştirebilir. Sertleşen bölgenin çapının, odak
noktasının çapına hemen-hemen eşit olduğu söylenebilir.
Odak noktasının çapı ise 0.1 mm'den birkaç milimetreye
kadar değiştirilebilir.
Değişik ışın parametrelerinin etkilerinin incelenebilmesi
için düşük alaşımlı (%0.9 C, % 0.5 Cr, % 0.2 Mo,% 0.2 V)
çelikten üretimiş VSD = 400-450 kp/mm2 olan yassı çu-
buklar üzerinde yapılan deney dizilerinde alınan betimleyici
sonuçlar Resim 2a'dan Resim 2e'ye kadar verilmiştir. Re-
sim 2a-2d'deki çizgelerde, iş parçası yüzeylerindeki ve gereç
içindeki sertlik değişimleri görülmektedir. Sürekli ışın ya da
impulslu ışın kullanılmış olması yüzeydeki sertlik değerinde
pek büyük bir fark ya da en azından duyulur bir fark
oluşturmamaktadır. Yüzey sertliği 900 VSD'nin biraz üze-
rindedir. Ancak ne var ki, sürekli ışında sertleşen bölge ge-
reç içinde duyulur biçimde daha derinlere kadar inmektedir
Ulaşılan bu denklik beklentilere uygun biçimde ilerleme hı-
zına bağlıdır, ilginç olan nokta; doruk sertliğin yüzeyde
olmayıp, yüzeyin 0.1 - 0.4 mm altında bulunmasıdır. Kuş-
kusuz bunun nedeni, sertleştirilen bölgede farklı noktaların
VSD
v = 8 mm/s
4 mm/s
0,1 0.2 0.3 0,1
Serti.Derinliği (mm)
l O l
Yarıçap (mm)
Resim 2b: impulslu çalışmada, deney örneği kesitinde sertlik da-
ğılımı.
Işın parametreleri: U = 130 kV, 1 = 10 mA Resim 2c: \ ş parçasının değişik bağıl hızlarında deney örneği yü-
impuls süresi = 10 ms zeyinde sertlik dağılımı, (sürekli ısın)
8
MÜHENDİS VE MAKİNA DERGiSi CiLT .29 SAYI:336 OCAK 1988
değişik hızlarla soğumağıdır. Ayrıca bir neden ise, elektron
ışınındaki enerjinin doğrudan gereç yüzeyinde değil, yüzel
altında 40 Mm ile 80 fim arasında değişen bir derinlik bölge-
sine bırakılmış olmasıdır?',3.
Resim 2e'de en büyük sertliğin ortaya çıkmasına yarayan,
buna rağmen yüzeyde bir erimeye neden olmayan en uygun
ışın gücü aralığı görülmektedir.
v = 4 ram/s
GUç Yoğunluğu (W/nT)
Resim 2e: Impulslu ve sürekli ısın ile çalışmada güç yoğunluğu-
nun sertleştirmeye etkisi. L = güç yoğunluğunun en
uygun aralığı
0,2 0,1 0.6
Serti.Derinlimi (mm)
Resim 2d: iş parçasının değişik bağıl hızlarında deney örneği Ke-
sitinde sertlik dağılımı, (sürekli ışın)
Aynca bir deney dizisi de, kimya endüstrisinde kırma-
ufalama değirmenlerinde kullanılan silindirik öğütme çu-
buklarında yapılmıştır. Sözü edilen çubukların (115 CrV 3,
Gereç No: 2210 "Gümüş Çeliği") ilkel sertliği 220 VSD
iken uygun bir ışınlama ile silindir yüzeyinin 0.2 mm altı-
na kadar inen bir tabaka içinde 750 VSD'ne çıkılmıştır1.
Işın parametrelerinden seçilecek en uygun bir dizi ile daha
da yüksek sertlik değerlerine ulaşılabileceği bilinmektedir.
SONUÇ
Isıl bir yöntem olarak elektron ışını yöntemi, kaynaklama
ve delme gibi çokça bilinen kullanım alanlarının yanısıra
makina elemanlarının ya da takımların yüzeylerinde tufal
oluşturmadan ve dolayısıyla da ek bir işleme gerek bırakma-
dan sertleştirmeyi olumsal kılar. Anımsatılması gereken bir
nokta, sertleşen bölge hacminin tüm iş parçasının hacmına
kıyasla çok küçük oluşudur, çünkü sertleşme, ana gereç
içinde ısının çok hızlı bir biçimde akışıyla gerçekleşmek-
tedir. Sertleştirme, impulslu ya da sürekli ışın ile olmaktadır
İmpulslu bir ışın, elektron üretecinin daha karmaşık ve ay-
rıntılı olmasını, dolayısıyla da daha pahalı bir düzeneği ge-
rektirmekle birlikte, sağladığı serbestlik dereceleri daha
çoktur, (impuls süresi, frekans, etkime bölgelerinin yersel ve
zamansa! dağılımı). Böylece ısıl işlem ile ilgili pek çok istek
bu yöntemde gerçekleşme şansını bulur.
tş parçasının bir vakum odası içinde bulunması gereği ve
zorunluluğu, elektron ışını ile sertleştirme yöntemini ancak
çok yüksek düzeyde zorlamalara maruz makina parçalarının
serteştirilmesine özgü bir duruma getirir. Bunun dışında,
parçalarda işlem sonucu uzayan ömür süreleri, yöntemi he-
men her zaman ekonomik kılmaktadır.
KAYNAKÇA
1. Schiller S.. Heisig U., Panzer S., "Eıektronenstrahltechnologie",
VEB Verlag Technik, Berlin, 1976
Z. Rykalin N.N., Zuev U., "Elektronenstrahlbearbeitung von Ma-
terialien", 1978
3. Schebesta W., "Untersuchung zur Aufklaerung über die Tiefen-
vvirkung beim Auftreffen höherenergetischer Elektronenstrahlen
auf Metalloberflaechen", Oissertation Techn. Universitaet Wien.
1975.
DUYURU
Odamız 1988 Ajandaları hazırlanmıştır. Şube ve Temsilciliklerimizden
alabilirsiniz.
MÜHENDiS VE MAKİNA DERGiSi CİLT :29 SAYI:336 OCAK 1988
Soğuk vurma
Prof. Dr. Levon Jozef ÇAPAN
Trakya Üniversitesi
Mühendislik - Mimarlık Fakültesi
Soğuk vurma yöntemi ile, tel veya çubuk uçlarının
yığılması ve dolayısıyla bu kısımlarda kesitlerin büyütülmesi
sonucunda cıvata, çivi, perçin başları şekillendirildiği gibi,
şekilleri bu bağlama elemanlarımnkine yakın her türlü
parçanın üretimi de yapılabilmektedir. Yöntem, iş parçası
uç kısımlarının soğuk yığılması ile sınırlanmamış olup,
parçanın uzunluğu boyunca herhangi bir veya birkaç
bölgesi de şekillendirilebilmektedir.
Cold heading is used for making enlarged sections on the
ends of a piece of rod ör uıire, such as the heads on bolts,
nails, rivets and the like. Hotvever, the process is not limited
to the cold deformation of the ends of a ıvorkpiece nor to
conventional upsetting; metal displacement may be
imposed at any point, ör at several points, along the length
of the workpiece.
Bu kritere göre de soğuk vurma makinalan tek, çift veya
üç vuruşlu olmak üzere üçe ayrılırlar.
Bu sınıflandırmalar sonucunda, aşağıdaki tiplerde soğuk
vurma makinalannın bulunabileceği anlaşılır:
-
Tek vuruşlu kapalı matrisli
-
Çift vuruşlu kapalı matrisli
-
üç vurşulu kapalı matrisli
-
Tek vuruşlu açık matrisli
-
Çift vuruşlu açık matrisli
-
Üç vuruşlu açık matrisli
Bu klasik makinalar dışındaözel soğuk vurma makinalan
da bulunmaktadır. Bunlara örnek olarak çok duraklı maki-
nalar, cıvata ve somun dövme makinalan gösterilebilir.
Şekil l de açık tip bir matris takımı verilmiştir. A ve B
blokları açılıp telin C deliğine girebilmesini sağladıktan son-
ra kapanarak teli sıkıca kavrar. Blokların yüzeylerindeki de-
lik çaplan eşit olabileceği gibi ikişer ikişer gruplanacak şe-
kilde de düzenlenebilirler.
Bu yöntemde, makaralar arasından geçirilerek doğrultu-
lan soğuk çekilmiş tel, soğuk vurma makinasında, uygun
boyda kesildikten sonra yığılarak şekillendirilir. Böylece
perçin, cıvata, somun ve şekilleri bu bağlama elemanlarımn-
kine yakın her türlü parçanın üretimi yapılabilmektedir.
Soğuk vurma yüksek hızda gerçekleştirildiği için, daki-
kada 100 parça mertebesinde üretimlere kolaylıkla ulaşıl-
maktadır.
Bir parçanın talaş kaldırma yerine soğuk vurma yönte-
miyle üretilmesi malzeme kazancı, soğuk şekil verme nede-
niyle çeşitli mekanik özelliklerinin yükselmesi, kontrollü
malzeme akışı gibi üstünlükler sağlar.
SOĞUK VURMA MAKİN ALARI VE TAKIMLARI
Soğuk vurma makinalan iki kritere göre sınıflandırılır:
a) Bazı makinalarda, matris iki kısımdan oluşur. Bu kı-
sımlar telin geçmesi için önce açılır, daha sonra yatay döv-
me makinalannda olduğu gibi teli sıkar, keser ve yığma iş-
lemleri sırasında da tutarlar.
Bazı makinalarda ise matris, ortası delik silindirik bir
bloktan ibarettir.
Böylece soğuk vurma makinalan açılan (veya açık) nıat-
risli ve kapalı matrisli olmak üzere ikiye ayrılırlar.
b) Tel uygun boyda kesildikten sonra, ucunun yığılması
için bir, iki veya üç darbe vurulabilir. Bunun için, ıstampa-
lar arayla şekillendirilecek malzemenin önüne gelirler.
Şekül.
Şekil 2 de, çift vuruşlu açık matrisli bir makinada soğuk
vurma işleminin yapılışı görülmektedir. Matris bloklarını ge-
çen tel dayamaya temas ettiğinde (Şekil 2a) matrislerin
kayması sonucunda kesilir (Şekil 2b). tik ıstampa birinci
yığma işlemini yaptıktan sonra (şekil 2c) çekilerek onun
yerini alan ikinci ıstampa vasıtası ile ikinci yığma yapılır
(Şekil 2d) ve şekil verme işlemi tamamlanır. Matrisler Ş ekil
2a'daki ilk konumlarını alarak açılır ve parça düşer. Bundan
sonra tel yeniden dayamaya kadar ilerler ve çevrim tekrarla-
nır.
Bu açıklamadan da anlaşılabileceği gibi, açık matrislerle
yapılan bir soğuk vurma işleminde, parçanın yığılan bölgesi
dışında kalan kısmının uzunluğu matrislerin kalınlığı tara-
fından tesbit edilmektedir.
Açık matrislere, soğutma ortamına daldırmak suretiyle
su verilir. Isıl işlemler tamamlandıktan sonra ise, çarpılma-
ları gidermek amacıyla delik yüzeyleri taşlanır veya leplenir.
Açık matris blokları, üretim kolaylığı nedeniyle, çoğun-
lukla tek parçalı yapılır.
Şekil 3'de silindirik başlı bir cıvatanın kapalı matrisli tek
vuruşlu bir makinada üretilmesi görülmektedir. L bloğunu
geçerek dayamaya (B) temas eden tel C} ve C2 çakılannın
oklar yönünde hareket etmesi sonucunda kesilir (Şekil 3a)
ve kesilen iş parçası kapalı matris (M) önüne getirilir (Şekil
10
MÜHENDİS VE MAKİNA DERGİSİ CİLT : 29 SAYI:336 OCAK 1988
Dayamı
Matris
Matris
Şekü 2.
3b). Istampanın ileri hareketiyle iş parçası matris deliği içi-
ne itilirken mekanik bir aygıtta Ct, C2 çakılarının açılması-
nı sağlar; bu durumda iticiye dayanan iş parçasının ıstampa
tarafından yığılması mümkün olur (Şekil 3c). Istampa geri
çekilirken itici ilerliyerek cıvatayı matris dışına atar (Şekil
3d).
Bu açıklamadan da anlaşılabileceği gibi, kapalı matrisle
yapılan bir soğuk vurma işleminde, parçanın yığılan bölgesi
dışında kalan kısmının uzunluğu itici ayarı tarafından tesbit
edilmektedir.
Ortası delik bir silindirden ibaret olan kapalı matrisler,
üretilecek parça adetine bağlı olarak, tek veya çok parçalı
olabilir. Bu matrisler genel olarak karmaşık şekilli parçala-
rın üretiminde tercih edilmelidir.
Tek parçalı kapalı matrislere su vermede, soğutma orta-
mı matris deliğinden geçirilir. Böylece delik yüzeyinde mak-
simum sertlik değeri elde edilirken matrisin geri kalan kıs-
mının daha yumuşak ve dolayısı ile de darbelere daha daya-
nıklı olması sağlanır.
Şekil 3.
Çok parçalı kapalı matrislerde nisbeten ucuz çelik bir
gövde içine sertleştirilmiş takım çeliğinden veya sinterlen-
miş bir çekirdek yerleştirilerek özellikle çok büyük üretim
adetleri için uzun ömür elde edilir.
Tasarım
Soğuk vurmada şekillendirme yalnız ıstampa veya yalnız
MÜHENDİS VE MAKlNA DERGİSİ CİLT : 29 SAYI:336 OCAK 1988
11
matris içinde gerçekleştirilebileceği gibi, kısmen ıstampa
kısmen de matris içine işlenmiş boşlukta da yapılabilir. İş
parçasının şekillendirme takımlarının içinden kolay çıkma-
sını sağlamak amacıyla yığılan kısma biraz kenar eğikliği
(koniktik) verilebilirce de bu hususta kesin bir zorunluluk
söz konusu olmamaktadır. Yığılan kısım iş parçasının ucun-
da olmadığı takdirde, uzun şaftın matris içinde olması tercih
edilmelidir.
Takım Malzemeleri
Takım ömrü bakımından gerek matris gerek ıstampa yü-
zeylerinin sert olması gerekir (minimum Rc60);iç kısımlar
ise, iş parçası malzemesinin sert olmaması hâJinde,Rc 40..50
arasında bir sertliğe sahip olmalıdır. Istampalar, açık matris-
ler ve tek parçalı kapab matrislerin yapımında malzeme ola-
rak AISIW l veya W 2 geniş ölçüde kullanılmaktadır. Çok par-
çalı matrislerin çekirdek kısmı AISI D2 veya M2 gibi yük-
sek alaşımlı takım çeliğinden üretilebileceği gibi sinterlen-
miş çekirdekler de (% 13...25 kobalt+tungsten karbür) kul-
lanılabilir.
Çelik bir takımın çatlayarak kırılması halinde, örneğin
AISI SI gibi darbeye dayanıklı bir malzemenin seçimi soru-
nu çözebilir. Bu tür çelikler, nisbeten düşük sertlikleri ne-
deniyle daha kolay aşınırlar. Fakat, km imayı önlemek için
gerektiğinde aşınma dayanımından fedakarlık edilmelidir.
Telin şekillendirilecek olan serbest uzunluğunun yukarı-
da belirtilmiş olan değerlerden daha fazla olması gereken
hallerde yığma işlemi ıstampa veya matris boşluğunda ya-
pılabilir (Şekil 2c ve Şekil 5).
Serbest uzunluğun l > 2d olması halinde, l/2d oranı iş-
lem sayısını verir. Bu oranla bulunan değer bir tam sayı ol-
madığı takdirde bir üst değer alınmalıdır, örneğin l = 5 d
ise 5d/2d = 2,5 olduğu için işlem sayısı üçtür ve bu nedenle
üç vuruşlu bir makina seçilmelidir.
Şekil 4-
Şekil 6.
İşlem sayısından sonra, her işlemde elde edilecek şekil
belirlenmelidir, örneğin Şekil 6'da görülen silindirik başlı
cıvatanın üretiminde uygulanabilecek birinci kademe Şekil
7'de verilmiştir. Bu şekildeki koni giriş çapı D=l,4 d olma-
lıdır (d = tel çapı). Istampa boşluğunun konik kısmının
hacmi ile cıvata kafasının hacmi belli olduğuna göre L bo-
yutu kolayca hesaplanır, d = 12 mm ve l = 4d olduğu ka-
bul edilirse D = 12x1,4 = 16,8 mm ve L = 21 mm bulunur
(Şekil 7). Bu örnekden de anlaşılabileceği gibi, ilk vuruşta
malzemeye önemli sayılabilecek bir şekil değişimi uygula-
v/
_ >2d .
ŞtkttS-
MAKİNA TİPİNİN SEÇİLMESİ VE İŞLEMLERİN
TAHİNİ
Soğuk vurmada, telin şekillendirilecek olan serbest uzun-
luğu, çelik malzemelerdeapın2katım(Şekil4), kurşun-ba-
kır alaşımlarında ise 1,5 katını aşmamalıdır. Aksi takdirde
burkulma ohır.
12
Şekil 7-
MÜHENDİS VE MAKlNA DERGİSİ CİLT :29 SAYI:336 OCAK 1988
namadığından başka üözümler arama gereği doğmaktadır.
örneğin Şekil 8'de görülen bir çözümde özel ıstampa ve
açık matrisler kullanılmıştır. Istampanın A yüzeyi matrisle-
rin B yüzeyi ile temas ettiği anda telin C ucu da E tijinin D
alt yüzeyine dayanır. Istampanın P kısmı hareketine devam
eder, M kısmı ise sabit kalır ve yay sıkışır. Sonuçta, ıstam-
panın M kısmı içinde kalan telin ucu E tiji tarafından yığı-
lır. Burkulma olmaması için H ölçüsü tel çapının iki katın-
dan küçük olmalıdır. Istampanın kursu tamamlandığında,
ıstampa boşluğu yığılan tel malzemesi tarafından tamamen
dolar.
ikinci bir ıstampa ile son şekil verilerek işlem tamamla-
nır.
SOĞUK VURMA İLE ŞEKİLLENDİRİLEBİLEN
METALLER
Soğuk vurma çoğunlukla Rockwell B sertliği 75...87
arasında olan az karbonlu çeliklere uygulanır.
Soğuk vurmada en çok kullanılan çeliklerden bazıları
ve kimyasal bileşimleri Tablo l'de verilmiştir.
Çelikteki alaşım elemanları ile karbon ve manganez yüz-
deleri arttıkça soğuk vurma güçleşir.
Çelikler dışında, pirinç dahil bazı bakır ve alüminyum
alaşımları, paslanmaz çelikler (302, 304, 305, 316, 321,
410, 431), bazı nikel alaşımları, berilyum ve titanyum da
soğuk vurmada kullanılan malzemelerdir. Fakat berilyum ve
titanyuma oda sıcaklığında çatlama olmadan şekil verilmesi
oldukça güçtür.
Vurma işleminin kolaylaştırılması amacı ile, bazı haller-
Şekil 8.
Çizelge 1. Soğuk vurmada en çok kullanılan çelikler ve kimyasal bileşimleri.
Malzeme
No
|
C
%
|
Si
%
|
Mn
%
|
P ve S
|
Cr
%
|
Ni
%
|
Mo
%
|
1.1121
|
0,06 - 0,14
|
0,05 - 0,30
|
0,30 - 0,50
|
(a)
|
..
|
.
|
_
|
1.1181
|
0,32 - 0,38
|
0,10 - 0,40
|
0,50 - 0,80
|
(a)
|
-
|
-
|
-
|
1.1191
|
0,40 - 0,45
|
0,10 - 0,40
|
0,50 - 0,80
|
(a)
|
••
|
-
|
-
|
1.7131
|
0,14 - 0,19
|
0,10 - 0,40
|
1,00-1,30
|
( (a)
|
0,80 - 1,10
|
-
|
-
|
1.7147
|
0,17 - 0,22
|
0,10 - 0,40
|
1,10-1,40
|
(a)
|
1,00 - 1,30
|
|
-
|
1.5919
|
0,12-0,18
|
0,10 - 0,40
|
0,60-0,90
|
(a) -(b)
|
0,85 - 1,15
|
1,20 - 1,60
|
-
|
1.7035
|
0,35-0,40
|
0,10 - 0,40
|
0,60 - 0,90
|
(a)
|
0,85-1,15
|
-
|
-
|
1.7220
|
0,30 - 0,37
|
0,10 - 0,40
|
0,60 - 0,90
|
(a) - (b)
|
0,85 - 1,15
|
-
|
0,15-0,30
| -
: < 0,040 % P; < 0,035 % S (P + S < 0,065 %)
-
: < 0,030 % P; < 0,025 % S
de, tel makinaya girmeden hemen önce indüksiyonla ısıtı-
labilir (Noreling yöntemi). Sıcaklık mertebesi 200 °C dir.
Ayrıca vurma sonucunda da sıcaklık yükselerek işlem so-
nunda 450°C civannda bir değere ulaşabilir.
MÜHENDiS VE MAKİ NA DERGİSİ CİLT : 29 SAYI:336 OCAK 1988
KAYNAKÇA
-
Metals Handbook, Volume 4, American Soiety for Metals, Metals
Park.Onio, 1973
-
Materials and Processes in Manufacturing Degarmo, E.P.
Macmillan publishing Co., Inc. New York, 1974.
-
Metal Process Engineering Polukhin, P. Mir Publishers, Moscovv,
1973.
-
Metal Forming Altan, T. American Society for Metals, Metals
Park, Ohio, 1983.
13
Yüzey kaplamada
etkili bir yöntem:
PVD*
Mehmet YÜKSEL, Ferhan UZUN ve
Tevfık KÜÇÜKÖMEROĞLU
K.Ü. Makiua Mühendisliği Bölümü
PVD (Physical Vapour Deposition) yöntemi, kimyasal
tepkimeler yapmadan, vakumda, malzeme yüzeylerine ince
tabakaların çöktürülmesini içerir. Bu yöntem kendi içinde
üç sınıfa ayrılır: Buhardan çöktürme, iyon kaplama ve
katodik püskürtme
PVD yöntemi ile plastik malzemeler, kağıt, cam, seramik ve
metaller kaplanabilir.
Kaplama malzemesi olarak saf metaller, alaşımlar, oksitler,
nitrürler v.b. alınabilir.
Kaplama kalınlığı, birkaç atom boyundan yaklaşık 100 Hm'
ye kadar seçilebilir.
Bu kaplamalarla malzemenin aşınma ve koro zy o n dayançları
yanında diğer fiziksel ve kimyasal özellikleri de önemli
1 ölçüde iyileştirilebilir.
PVD (Physical Vapour Deposition) processes include thin
layer deposition on the materials in the vacuum ıvithout
any chemical reaction taking place. These processes are
divided into three classes: evoporation, ion plating and
cathodic sputtering.
Plastic materials, paper, glass, ceramic and metals may be
coated by applying PVD processes.
Püre metals, alloys, oxides, nitrides, ete. can be used as the
coating materials.
Coating thickness may be varied from a few atom sizes to
approKİmately 100 Hm.
Wear and corrosion resistance of the material as well as
other physical and chemical properties can be considerably
improved by t his way.
Gelişen teknoloji ile bugün, bir malzemeden çeşitli özel-
likleri birarada bulundurması istenir. Fakat, yüksek aşınma
ve korozyon dayanımları, iyi şekillendirilebilme, yüksek
maliyeti gerektirir. Bu nedenle yüzey kaplama teknolojileri
son yıllarda oldukça hızla gelişmektedir. Kompozit malze-
me kullanımı ile, istenen özelliklerden bazıları (örneğin mu-
kavemet) ana malzeme tarafından üstlenilirken, bazıları da
(örneğin yüksek aşınma ve korozyon dayanımı) kaplama ta-
bakası tarafından üstlenilir.
Genelde, bir kaplama tabakası üretmek amacı ile yapılan
çöktürme süreçleri, damlacık iletimi ile olanlar (plazma püs-
kürtmesi, ark püskürtmesi vb.) ve atom iletimi ile olanlar
(fiziksel buhardan çöktürme, kimyasal buhardan çöktürme
ve elektrokaplama) olmak üzere iki tipe ayrılırlar1. Damla-
cık iletimi süreçlerinin başlıca sakıncası kaplamanın göze-
nekli olmasıdır. Elektrokaplamanın uygulama alanları sınır-
lıdır. Diğer iki atom iletim süreci buhar fazından ç oktur erek
yapılan kaplamaları kapsar. Bunlardan fiziksel buhardan
çöktürme (PVD), bir çok üstün yönü ile son yılların yaygın
olarak kullanılan yöntemidir.
GAZ FAZINDA ÇÖKTÜRME SÜREÇLERİ ve PVD
YÖNTEMİNİN ÜSTÜNLÜKLERİ
Son yirmibeş yıldır gaz fazından çöktürerek yapılan kapla-
ma işlemleri, büyük bir hızla gelişerek endüstriyel uygula-
malarda önemli bir yere sahip olmuşlardır. Gaz fazından
çöktürerek kaplamanın iki ana yöntemi kimyasal buhardan
çöktürme (CVD: Chemical Vapour Deposition) ve fiziksel
buhardan çöktürme (PVD: Physical Vapour Deposition) sü-
reçleridir.
CVD sürecinin temelini, genellikle gaz fazında olan kim-
yasal tepkimelerin katı ürünlerinin, kaplanacak malzeme üze-
rine çöktürülmesi oluşturur2 >3. PVD sürecinde ise, buhar-
laş tınlan bir saf madde veya bileşiğin gaz fazından fiziksel
çöktürülmesi sağlanır. Daha üstün özellikli bileşik tabakala-
rın üretimi için bazı PVD süreçlerinde , kimyasal tepkime-
lerden de yararlanılır. PVD süreçleri vakumda gerçekleştiri-
lir.
PVD süreçlerini şu anda ve gelecekteki çeşitli uygulama-
lar için çekici kılan başlıca unsurlar şunlardır [4> *'2 ]
-
Herhangi bir metal, alaşımlar, refrakter bileşikler ve
bazı polimer malzemeler çöktürülebilir.
-
Difüzyon kaplamalarının tersine plastik, kağıt, cam,
seramik, metal veya alaşımlar gibi herhangi bir malzeme
kaplanabilir.
-
Düz ve karmaşık şekilli parçaların yanında, istenen
uzunlukta folyelerin yüzeylerini tamamen veya kısmen kap-
lamak olasıdır.
-
Kaplanacak parça (substrat) sıcaklığı, geniş bir bölge-
de değişebilir. Böylece yüksek sıcaklıklarda çalışmanın do-
ğurduğu kötü etkiler en aza indirilebilir.
-
Kaplama tabakasının yüzeye yapışması çok iyidir.
-
işlem sonucunda substratın yüzey kalitesine eşit bir
yüzey elde edilir.
-
Substrat sıcaklığı, ortam basıncı ve diğer işlem para-
metrelerini değiştirerek istenen özellikte kaplamalar üretile-
bilir.
-
PVD süreçleri, insan sağlığı ve çevre kirliliği açısından
herhangi bir sorun yaratmaz.
PVD SÜREÇLERİ
Üç tip PVD süreci vardır. Bunlar:
-
Buhardan çöktürme (Evaporation)
-
İyon kaplama (ion plating) ve
-
Püskürtme (Sputtering) veya katodik püskürtme
2. Ulusal Makina Tasarım ve imalat Kongresinde sunulmuştur.
14
MÜHENDiS VE MAKlNA DERGİSİ CİLT : 29 SAY l: 336 OCAK 1988
Buhardan Çöktürme
PVD süreçleri içinde en basit olanıdır. Bu süreçte, kapla-
nacak malzeme herhangi bir şekilde ısı etkisi ile buharlaştırı-
lır ve buharlaşan atomlar substrat (kaplanan malzeme) üze-
rine giderek yoğuşurlar. İşlem 10"s - W6 Ton basınçlı
yüksek vakum ortamında uygulanır, Şekil 1.
I Subur»
yanında sistemin basit, buhar veriminin yüksek ve kaplama
malzemesinin seçiminde geniş olanaklar sunması sürecin
avantajlarıdır3
İyon Kaplama
iyon kaplama sürecinde de kaplanacak malzeme, buhar-
dan çöktürme yöntemindeki benzer şekilde buharlaştırılır.
Yalnız buhar, kaplanacak malzemeye giderken bir plazma
içinden geçer. Plazma gazı genellikle argondur ve vakum
odasında 0.005-0.2 Torr basınçındadır. Plazma substratı
yüksek bir negatif gerilimle besleyerek (0,2-5 kV) üretilir.
Şekil 2. Buharlaştınlan atomlardan bir kışımı substrata gi-
derken plazmanın etkisiyle iyonlaşır ve aktifleşir1.
Ortam
K»pUm»
m* d c! n i
l I
\
Vakum
pd»tı
pomp«n
Şekil 1.
Isıtmanın elektron ışını ile yapıldığı buhardan çöktürme
siirecl şeması
Kaplama malzemesini buharlaştırmak için gerekli ısıtma
yöntemleri aşağıdakilerden herhangi biri olabilir5''
-
Buharlaştırılacak malzemenin konduğu potanın veya
doğrudan kendisinin direnç olarak bağlanması
-
İndüksiyon ocağı ile ısıtma,
-
Bir elektron tabancası ile elektron ışını bombardımanı
-
Elektrik arkı,
-
Laser ışını, v.b.
Bunlardan doğrudan direnç, indüksiyon, elektron ışını
ve vakum ark en önemlileridir. Bulıarlaştıncı potaları ref-
rakter metallerden (Mo, W, Ta), oksitlerden (A12O3, SiO2 ,
MgO, ThO ) veya grafitten yapılır. 1700°C'nin üzerindeki
sıcaklıklarda su soğutmalı bakır potalar kullanılır5
Yoğuşan tabakanın kaynağa en yakın substrat noktasın-
da, en kalın olması, substrata uygun dönme hareketi verile-
rek önlenebilir. Diğer bir çözüm de vakum odasına 0,005 -
0,2 Torr basınçlı bir soy gaz sokarak,buhar atomlarının
substrata, çarpışarak gitmesini sağlamaktır. Böylece olduk-
ça üniform kalınlıkta (%10) bir tabaka üretilebilir1.
Buhardan yoğuşturma sürecinde, buharlaşan atomların
kinetik enerjileri küçük olduğu için elde edilen kaplamala-
rın ana malzemeye yapışma kabileyeti düşüktür2. Bunun
* l Torr = 1 mm Hg = 1.33 Pa
Şekil 2. iyon kaplama sürecinin şematik gösterilmesi
İyon kaplama sürecinde, kaplanan atomların arttırılmış
kinetik enerjileri nedeniyle substrata yapışma yeteneği daha
da gelişir. Yani yüksek enerjili süreç, iyon kaplanmış taba-
kaları çok iyi yapışma özellikli kılar6.
İyon kaplamada ilk kademe, substratm yüksek enerjili
argon iyonları ile bombardımanıdır. Bu işlemle substrat üze-
rindeki kir ve oksit tabakaları uzaklaştırılır. Endüstriyel uy-
gulamalarda kaplanacak parçalar sık asıldıkları için birin-
den sıçrayan parçacıklar diğerlerine yapışarak karma taba-
kalar oluşturabilmektedirler. "Yalancı difüzyon tabakası"
denilen bu katmanlar, kaplamanın yüzeye yapışmasında
çok iyi bir zemin oluşturlar7. İkinci kademede, yukarıda
açıklanan bombardımana devam edilirken, aynı zamanda
kaplama malzemesi de buharlaştırılmaya başlanır. Belli çök-
türme süresi sonunda işleme son verilerek sistemden vakum
kaldırılır.
İyon kaplamada, dirençle ısıtma yerine elektron ışını ta-
bakalarının kullanılması iyonlaşma verimini arttırır. Aynca
doğru gerilim yerine r.f. (radyo frekansı, ~ l MHz'den bü-
yük) geriliminin kullanılması, diğer iyi etkileri yanında
iyonlaşmayı da önemli ölçüde artırır6. Şiddetli gaz iyonu
MÜHENDiS VE MAKİ NA DERGİ Sİ CiLT : 29 SAYI:336 OCAK 1988
15
bombardımanının doğurduğu substrat ısınması sorunu,
destekli plazma iyon kaplama süreci ile azaltılabilir1. Bu sü-
reçte substrat daha az negatif bir potansiyelde beslenirken,
plazma için gerekli elektronlar, yaklaşık 100 V pozitif po-
tansiyelli üçüncü bir elektrodu sisteme ekleyerek sağlanır.
Bu yöntemde iyonlaşma verimi de yaklaşık on kat arttırıl-
mış olur6.
Katodik Püskürtme
Elektron ışını ile buhalaştırmanın kullanıldığı yöntem-
lerde, kaplama yapısını ve bileşimini kontrol etmede doğan
güçlükler, alternatif bir buhar üretme yönteminin geliştiril-
mesine yolaçmıştır.*. Püskürtme, katodik püskürtme veya
atomizasyon denilen bu yeni süreçte, kaplanacak malzeme
(target olarak da adlandırılır) negatif olarak bağlanarak doğ-
ru gerilim ile beslenir. Genellikle 0.02-0.15 Torr basınçlı
argon gazı vakum odasına alınarak oluşturulan plazmanın
pozitif iyonları target yüzeyini bombardıman eder. Bu bom-
bardımanla yerinden püskürtülen target atomları buhar fazı-
na geçerek kaplanacak parça üzerinde yoğuşurlar1 >9
elde edilenin yaklaşık iki katı kadardır. Örneğin, 5 kW
(10 A, 500 V) lık bir güç kullanarak, targetten 50 mm uzak-
lıktaki bir substrat üzerine bakır ve alüminyum, sırası ile 2,5
(Um/dak ve l, l /an/dak hızlarında çöktürülebilir10.
BİLEŞİK TABAKALARIN ELDE EDİLMESİ VE REAKT
REAKTİF PVD SÜREÇLERİ
PVD süreçlerinde bileşik tabaklar, ya çökturülecek bile-
şiğin doğrudan buharlaştırılması ile veya oluşturulacak bile-
şik tabakanın cinsine göre vakum odasına bir reaksiyon
gazını sokarak, bilinen PVD yöntemleriyle (reaktif süreçler)
üretilirler.
.iv*4*.»-
Ar — *—
jBOf'JM1'
O* 34"
Şekil 4.
Magnetik alanın kullanıldığı püskürtme sürecinin şema-
tik gösterilmesi
Aktifleştirilmiş Reaktif Buhardan Çöktürme
Bu süreçde tepkime, buhar fazında, metal ve gaz atomla-
rının iyonlaştınlması ve aktifleştirilmesi ile tamamlanmaya
teşvik edilir. Sistemde genellikle elektron ışını ile buharlaş-
tırma yapılır ve iyonlaşma için kaynak ile substrat arasına
düşük doğru gerilimli (20-100 V) bir elektrot yerleştirilir1 ]
Reaktif İyon Kaplama
Bilinen iyon kaplamadan farkı reaktif gazın varlığıdır.
MÜHENDiS VE MAKİNA DERGİSİ CİLT : 29 SAYI:336 OCAK 1988
Vakum
od* 1 1
Şekil 3. Katodik püskürtme sürecinin şematik gösterilmesi
Bu süreçte, targetten püskürtülen atomların, iyonlarla
çarpışarak substrata ulaşması, üniform bir kaplama tabakası
elde edilmesini sağlar. Ayrıca buhardan çöktürmeye göre,
atomlara 10-100 kat arası daha yüksek enerji verildiği için
daha iyi yapışma elde edilir3. Buna karşı kaplama hızı düşük-
tür ve bazı durumlarda istenmeyen substrat ısınmalarına ne-
den olur.
Magnetron olarak da adlandırılan manyetik alanların kul-
lanıldığı püskürtme süreçlerinde, targete yakın bir sürekli
mıknatıs yerleştirilmiştir. Şekil 4. Manyetik alanın kullanıl-
ması, plazmam serbest elektronlarının helisel hareketlerine
yol açar. Böylece artırılan elektron yolu, çarpışmayı da
artırarak target üzerinde yüksek yoğunluklu plazma oluşu-
muna neden olur9. Bu yüksek iyon akım yoğunluğu yüzün-
den püskürtme verimi çok yüksek olup, klasik püskürtme ile
16
Doğrudan Buhardan Çöktürme
Kaplama bileşiğinin kendisi herhangi bir şekilde buhar-
laştırılarak substrata çöktürülür. Çöktürülen bileşik bir çok
nedene bağlı olarak genellikle başlangıç malzemesinden
farklı stokiyometri gösterir, örneğin, Al O' ün direk
buharlaştırılmasında, kaplama tabakası Al O x bileşiği
şeklinde oluşur. Bu oksijen eksikliği, ortama düşük kısmı
basınçlı 02 salınarak giderilebilir1'11.
Reaktif Buhardan Çöktürme
Metal ve alaşımlar, vakum odasına alınan kısmi basınçlı
bir reaktif gazın varlığında buharlaştınlır. Metal atomları
reaktif gazlarla substrat üzerinde veya gaz fazında tepkiye-
rek Dileşiği oluştururlar. Örneğin, TiC oluşturmak için,
C2H2
nin varlığında Ti buharlaştırılır. Tepkime:
2Tİ + C H a»2Tic+ H
Buharlaştınlan metal atomları ve reaktif gazlar plazma için-
de iyonlaştınlır ve aktifleştirilirler. Böylece süreç verimi ge-
lişir.
Reaktif Püskürtme
Reaktif gazın varlığında yapılan püskürtme işlemidir, ör-
neğin, A12O3 oluşumu için O2 ortamında Al, TiO2 oluşu-
mu için O2 ortamında Ti, v.b. püskürtülür.
PVD YÖNTEMLERİ İLE KAPLANMIŞ TABAKALARIN
ÖZELLİKLERİ
Bir yüzey kaplamasında öncelikle istenen özellik, yüzeye
iyi yapışmış olmasıdır. Bunun yanında sıkı, kolonsal olma-
yan eş eksenli tane yapısı arzulanır. Kaplama işlemleri sıra-
sında kaplanacak malzemelerin yüksek sıcaklıklarda tutul-
maları difuzyonu hızlandıracağı için yapışma yeteneğini ge-
liştirir. Ayrıca yüksek sıcaklıklar ara yüzeyler arası gerilmele-
ri azalttığı gibi kaplama iç yapısını da geliştirirler. Bu ne-
denle substrat sıcaklığı, kaplama yapısını belirlemede kritik
parametredir. Saf metaller ve tek fazlı alaşımlar için Moc-
han ve Demchishin'in üç bölge modeli Şekil 5'de gösteril-
miştir.
Çeşitli PVD süreçlerini elde edilen kaplamaların yüzeye
yapışma özelikleri bakımından karşılaştırdığımızda çok iyi
yapışma özelliği ile iyon kaplama başta gelir. Daha sonra
katodik püskürtme ve en son buhardan çöktürme sıralanır.
Çeşitli süreçlerde kaplama hızları, buhardan çöktürme
ve iyon kaplamada 0,01-2,5 ^m/dak. ve püskürtmede 0,025-
1,0 Aim/dak. arasında değişir1.
Dikey aralı toku
Sıkı pak*tl»n>ı» iMi
Dostları ilə paylaş: |