ANNEXE 1
Fiches signalétiques
des 12 pôles CNFM
-
Bordeaux
-
Grand Est
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Grenoble
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Lille
-
Limoges
-
Lyon
-
Montpellier
-
Ouest
-
PACA
-
Paris Ile de France
-
Paris Sud Orsay
-
Toulouse
des services nationaux du CNFM
Nota Bene : les sigles des formations et les contacts de ces formations sont explicités dans l’annexe 2
pôle cnfm de bordeaux
Directeur : Pascal FOUILLAT Directeur adjoint : Jean TOMAS
PCB-IXL / 351, Cours de la Libération / 33405 TALENCE Cedex
-
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05.40.00.26.30
|
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05.40.00.28.07
|
|
fouillat@ixl.fr
tomas@ixl.fr
|
Etablissement de rattachement : ENSEIRB Etablissement fondateur : ENSEIRB
Filières de formation initiale utilisatrices du pôle en 2005/2006 :
Bordeaux
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Université Bordeaux 1
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Master pro
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M2P EEA (Electronique Electrotechnique. Automatisme) Microélectronique+Qualité Fiabilité
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Master pro
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ISI (Ingénierie des Systèmes Industriels) spécialité GEII
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Master rech.
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Microélectronique - Electronique
|
Master
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1A EEA option Electronique + option Automatique
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IUP
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2A GEII (Génie Electrique et Informatique Industrielle) +
3A GEII option Electronique
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Licence pro
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EISI (Electronique et Informatique des Systèmes industriels)
|
Licence
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Spécialité EEA
|
IUT
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2A Mesures Physiques
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ENSEIRB
|
Ingénieur
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1A Electronique + 2A option Radiocom + 3A option Microélectronique
|
Limoges
|
ENSCI
|
Ingénieur
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3A Matériaux et procédés
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Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006 :
Laboratoire IXL (ENSEIRB- Université Bordeaux 1)
Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :
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Technologie et Caractérisation
heures-personnes
|
Conception et Test
heures-personnes
|
Nombre utilisateurs
|
Formation Initiale (TP + stages + projets)
|
4 431
|
15 028
|
502
|
Recherche (doctorants)
|
2 400
|
16 000
|
48
|
Formation Continue et Transfert
|
160
|
0
|
14
|
Principaux moyens opérationnels :
| -
Traitement thermique pour la microélectronique hybride, sérigraphie, micro-câblage, montage en surface.
| | -
Microscopie optique, microscopie électronique à balayage, préparations des échantillons, laminographe, caractérisation RF, banc extraction de paramètres.
| | -
12 stations, 12 PC,
-
Outils CAO CNFM : Cadence, Silvaco, Altera, Memscap, Xilinx, Mentor-Eldo, Mentor-Advance MS, Excalibur,
-
Outils CAO spécifiques : ANSYS, ISE, ADS, Mentor Graphics, outils PAO pour la production de documents scientifiques.
| | -
Accès au testeur HP 83000 du CNFM.
|
Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle : 3,5 M€
Personnel affecté au pôle en 2005/2006 :
-
1 professeur (directeur de pôle), 1 maître de conférence (co-directeur de pôle),
-
1 ingénieur de recherche, 2 ingénieurs d’études, 1 assistant ingénieur, 1 technicien (tous à temps partiel),
-
1 secrétaire à 10 %.
pôle Cnfm GRAND EST
MIcroélectronique GRand EST
Directeur : Francis BRAUN
MIGREST/LEPSI / 23 rue du Loess / BP 20 / 67037 STRASBOURG Cedex 2
-
|
06.64.09.48.07
|
|
03.88.05.34.01
|
|
Francis.Braun@adm-ulp.u-strasbg.fr
|
Etablissement de rattachement :
|
Université Louis Pasteur de Strasbourg
|
Etablissements fondateurs :
|
Université Louis Pasteur de Strasbourg, Université Henri Poincaré de Nancy, Université Paul Verlaine de Metz, Institut National Polytechnique de Lorraine
|
Filières de formation initiale utilisatrices du pôle en 2005/2006:
Metz
|
U. Paul
Verlaine
|
Master pro
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M2P EAII (Electronique, Automatique Instrument Industriel) - Radiocommunication systèmes électroniques embarqués
|
Master
|
M1 EAII
|
Nancy
|
INPL
|
Ingénieur
|
3A ENSEM (Ecole Nat. Sup. d’Electricité et de Mécanique) - Instrumentation + Sys temps réel
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UHP
|
Master pro
|
M2P IS-EEAPR (Ingénierie Sys. en Electr. , Electrotech., Auto., Product. et Réseaux)-Electronique embarquée et instrumentale
|
Master
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M1 IS EEAPR - Electronique
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Nancy/Metz
|
U.HP / U. PV
|
Master rech.
|
M2R IS-EEAPR -Génie électrique et électronique
|
Strasbourg
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INSA
|
Ingénieu r
|
3A Génie électrique - option Système
|
U.LP
|
Master rech.
|
M2R MNE (Micro et NanoElectronique) - Physique et technologie du composant
|
Master rech.
|
M2R MNE - Conception des systèmes intégrés
|
Master pro
|
M2P MNE - Systèmes électroniques intégrés
|
Master
|
M1 MNE
|
Licence
|
L3 ESA (Electronique Signal Automatique)
|
DUT
|
Département Génie électrique
|
Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006 :
Strasbourg : InESS
|
Nancy : LIEN, LPMI
|
Metz : LICM
|
Activité 2005/2006 sur les moyens communs du pôle :
|
Conception et Test
heures-personnes
|
Nombre utilisateurs
|
Formation Initiale (TP + stages + projets)
|
21 220
|
291
|
Recherche et doctorants
|
12 800
|
16
|
Principaux moyens opérationnels :
| -
Mesures I(V), C(V), … test sous pointes, analyseur de réseaux.
| | -
21 stations de travail, 5 PC,
-
Outils CAO du CNFM : Cadence, Silvaco, Eldo, Altera, Xilinx,
-
Outils CAO spécifiques : HSPICE, Protel, Viewlogic.
| | -
Accès au testeur HP 83000 du CNFM,
-
Testeur numérique HP 82000, poste de test analogique.
|
Investissement cumulé dans les moyens communs du pôle : 0,5 M€
Personnel affecté au pôle en 2005/2006 :
-
1 professeur (directeur de pôle), 1 professeur agrégé,
-
1 secrétaire à environ 10 %,
-
6 ingénieurs et 1 technicien (tous à 10 % pour le pôle).
pôle cnfm de grenoble
Centre Interuniversitaire de Micro-Electronique et Nanotechnologie
Directeur : Christian Schaeffer – Directeur adjoint : Ahmad BSIESY
CIME Nanotech/INP Grenoble Minatec / 3 parvis Louis Néel – BP 257 / 38016 Grenoble cedex1
-
|
04.56.52.94.00
|
|
04.56.52.94.01
|
|
admin@cime.inpg.fr
|
Etablissement de rattachement : INP Grenoble
Etablissements fondateurs : INP Grenoble et Université Joseph Fourier (Université de Grenoble I)
Filières de formation initiale utilisatrices du pôle en 2005/2006 :
Grenoble
|
INP Grenoble
|
Ingénieur
|
5A ESISAR option Electronique des Systèmes Embarqués
|
Ingénieur
|
2A + 3A ENSERG - Filière Microélectronique - spécialité Circuit + Soc (Sys. sur puce) + Dispo. et microsystèmes
|
Ingénieur
|
2A et 3A INP Grenoble Télécoms Appli. Communicantes Embar.
|
Ingénieur
|
3A ENSPG– Filière Phys des C. + Instrum. pour les biotech
|
Ingénieur
|
3A ENSPG MFN (Matériaux Fonctionnels et nanophysique)
|
Ingénieur
|
2A ENSGI – option microélectronique
|
Ingénieur
|
2A ENSPG - Filière Instru. Phy., Phys. des compo, Mat. Fonctionnels.
|
Ingénieur
|
2A ENSEEG Matériaux pour la microélectr. et microsys.
|
Ingénieur
|
1A INP Grenoble Télécoms
|
INP/Polito/EPFL
|
Ingénieur
|
INP Grenoble 2A Micro-nanotechnologies pour les sys. intégrés
|
Polytech
|
Ingénieur
|
1A + 2A apprentissage E2I (Electro. Informatique Industrielle)
|
Ingénieur
|
3A dpt. Matériaux (Sc. et Génie des Mat.) option MNI (Micro Nano Ingénierie) + MSI (Multimat. Surface Interface) + double cursus
|
Ingénieur
|
3A 3i3 (Infor. Indus. et Instru.) option Electronique
|
Ingénieur
|
3A dpt 3i – option MNI + option 3i
|
Ingénieur
|
1A e2i (Electronique et Informatique Industrielle)
|
UJF
|
Master pro
|
M2P ICMMN (Ing. des Couches Minces MicroNano Structures)
|
Master 1
|
Formation physique/Physique et Ingénierie/Informatique option CSE
|
Master 1
|
EEATS (Electro. Electrotech. Automatisme Traitement du Signal)
|
Licence pro
|
GEii (Génie électrique et informatique industrielle) option MI (Microélectronique et Microsystème)
|
Licence
|
Génie électrique
|
DUT
|
2A Mesure physique
|
UJF / INPG
|
Master rech.
|
M2R EEATS Micro et Nanoélectronique -options CSI (Conception des Sys. Intégrés) + PCM (Phys. des Composants et Matériaux)
|
Master pro
|
EEATS - CSINA (Concep. des Sys. Intégrés Numérique et Analogique)
|
Master rech.
|
M2 EEATS - Spécialité optique et radiofréquence - Option composants Semi-conducteurs Rapides
|
Annecy
|
ESIA
|
Ingénieur
|
4A Physique appliquée et instrumentation
|
Gardanne
|
ENSMSE
|
Ingénieur
|
3A IT2i Microélectronique
|
Lyon
|
INSA
|
Ingénieur
|
5A Sc. et Génie des mat. opt SMC (Semiconducteurs, Composants et MicroNanotechnologie)
|
INSA
|
Ingénieur
|
5A Génie électrique – option SEI
|
UCB
|
Master pro
|
M2P mention SIDS (Science de l’Info. des Dispositifs et des Systèmes)
|
ECL
|
Master rech.
|
M2R SIDS – spécialité DEI (Dispositif de l’Electronique Intégrée)
|
UCB
|
Master
|
EEA (Electronique Electrotechnique et Automatisme) – Microélec.
|
Marseille
|
Polytech
|
Ingénieur
|
3A – Génie Electronique
|
Montpellier
|
Polytech
|
Ingénieur
|
3A MEA (MicroElectronique et Automatique)
|
Nice
|
Polytech
|
Ingénieur
|
2A Microélectronique et Instrumentation
|
Strasbourg-Nancy
|
ULP / InESS
|
Master rech.
|
M2 MNE – Composants et systèmes
|
Master pro
|
M2 MNE – Composants et systèmes
|
Tours
|
Polytech
|
Ingénieur
|
5A – spécialité Electronique
|
IUT Tours
|
DUT
|
Licence pro GEii – option Electronique analogique et microlectronique
|
Laboratoires utilisateurs du pôle en 2005/2006:
CEGELY/INSA Lyon
|
LENAC UCB Lyon
|
TIMA
|
CMP
|
LEPES/CNRS
|
SPINTEC/CNRS
|
CRTBT/CNRS
|
LIS
|
|
ICP
|
LMGP
|
Entreprises :
|
IMEP
|
LMI/UCB Lyon
|
Microvitae technologies/Grenoble
|
Laboratoire Louis Néel / CNRS
|
LPM/INSA Lyon
|
SOITEC/Bernin
|
LEG
|
LTM : CNRS
|
STANTEC
|
LEMD/CNRS
|
LTPCM
|
THALES/Valence
|
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